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J-GLOBAL ID:201402266009739604   整理番号:14A1394002

NiOのナノ粒子インクのレーザ還元焼結によるNi電極の真空フリーのマークレスパターニング

Vacuum-Free, Maskless Patterning of Ni Electrodes by Laser Reductive Sintering of NiO Nanoparticle Ink and Its Application to Transparent Conductors
著者 (4件):
資料名:
巻:号: 10  ページ: 9807-9814  発行年: 2014年10月 
JST資料番号: W2326A  ISSN: 1936-0851  CODEN: ANCAC3  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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電気的タッチスクリーンパネルでは,金属薄膜などの電極が利用されている。ポリマー基板上に形成する金属薄膜の機械的性質を向上するために,レーザ還元焼結法について検討した。ポリマー基板上にNiOのナノ粒子インクを噴射し,これにレーザを照射して,NiOを還元することで,Ni電極を形成した。レーザビームを光走査して,マークレスのパターニングを実現した。また,真空が不要で,高解像度のNiのパターンを形成できた。インク溶媒中に還元剤を添加することで,連続波レーザでも容易に還元焼結を実現できた。膜の形態,膜厚,透過率,密着性などを評価した。膜厚は約40nm,透過率は87%以上であった。膜の表面性状は滑らかで,光沢があった。また,曲げ試験,引張試験,超音波浴試験などの結果,ガラスやポリマー基板上の電極の密着性が強固であることが分かった。また,導電率も十分で,フレキシブル基板を利用した電気的タッチスクリーンパネルに利用できる。
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分類 (4件):
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JSTが定めた文献の分類名称とコードです
レーザの応用  ,  金属薄膜  ,  原子・分子のクラスタ  ,  固体デバイス製造技術一般 

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