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J-GLOBAL ID：201402267582956047   整理番号：14A0023591

誘電スペクトロスコピーとナノインデンテーションによるニッケルナノストランドナノ複合材料のキャラクタリゼーション

Characterization of Nickel Nanostrand Nanocomposites Through Dielectric Spectroscopy and Nanoindentation

著者 (7件)： KOECHER Michael (Brigham Young Univ., Utah) ,  YEAGER John D. (Los Alamos National Lab., New Mexico) ,  PARK Tyler (Brigham Young Univ., Utah) ,  FULLWOOD David (Brigham Young Univ., Utah) ,  COLTON John S. (Brigham Young Univ., Utah) ,  MARA Nathan (Los Alamos National Lab., New Mexico) ,  HANSEN Nathan (Conductive Composites, Utah)
資料名： Polymer Engineering & Science  (Polymer Engineering & Science)
巻： 53  号： 12  ページ： 2666-2673  発行年： 2013年12月 
JST資料番号： C0640A  ISSN： 0032-3888  CODEN： PYESA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ニッケルナノストランド(NS)含有ナノ複合材料の導電性は,NS間の間隙と,トンネル効果のエネルギーギャップに支配される。そこで,ナノインデンテーション(NI)により,エネルギーギャップを,誘電スペクトロスコピー(DS)により,間隙を測定した。更に,簡単なパーコレーション/トンネル効果モデルを用いて,予測し,実験結果と比較した。5種の市販ポリマにより同一NS含量のコンポジット薄膜を調製し,NI測定し,0.4~1.7eVのエネルギーギャップを得た。6種ポリマの誘電率測定(DS)により,NS同士の間隙は1.3~3.3nmが得られた。これを基に,上記モデルから,バルクの抵抗率を算出したところ,2種を除いて1桁以内の誤差に収まり,本法により,導電性が測定可能なことを実証できた。

シソーラス用語： スペクトロスコピー ,  *導電性高分子 ,  *ニッケル ,  撚線 ,  ナノ構造 ,  *ナノ複合材料 ,  エネルギーギャップ ,  *トンネル効果 ,  *パーコレーション ,  間隙 ,  体積率 ,  *電気抵抗率 ,  エポキシ樹脂 ,  ポリウレタン ,  ポリイミド ,  ポリシロキサン ,  浸漬塗装 ,  誘電率 ,  *ナノインデンテーション
準シソーラス用語： *ナノストランド ,  *誘電スペクトロスコピー

分類 (3件)： 高分子材料一般  (YH07010B) ,  充填剤,補強材  (YH05030J) ,  物理的性質一般  (YH02021U)

タイトルに関連する用語 (4件)： 誘電スペクトロスコピー ,  ナノインデンテーション ,  複合材料 ,  キャラクタリゼーション