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J-GLOBAL ID：201402267839359398   整理番号：14A0763477

二元ケイ酸塩ガラス中の低周波Raman散乱:ボゾンピーク周波数とその一般表現

Low-frequency Raman scattering in binary silicate glass: Boson peak frequency and its general expression

著者 (4件)： NAKAMURA Kensaku (Dep. of Applied Physics, Tohoku Univ.) ,  TAKAHASHI Yoshihiro (Dep. of Applied Physics, Tohoku Univ.) ,  OSADA Minoru (International Center for Materials Nanoarchitectonic, National Inst. for Materials Sci.) ,  FUJIWARA Takumi (Dep. of Applied Physics, Tohoku Univ.)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan (Web)  (Journal of the Ceramic Society of Japan (Web))
巻： 121  号： 1420  ページ： 1012-1014 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： U0409A  ISSN： 1348-6535  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 低周波Raman測定を,ボゾンピーク性質に及ぼすネットワーク改質材の導入の効果を解明するためにアルカリおよびアルカリ土類ケイ酸塩ガラスで実施した。著者らの調査は,小および中程度のイオンの導入がボゾンピーク周波数(ω_BP)を増加させる傾向にあり,大量のイオンの導入は周波数を低減させる傾向にあることを示した。ω_BPはせん断剛性に比例することが示されてきたが,非線形関係がこれらの二元系で得られた。それどころか,平均原子体積がボゾンピークの傾向にも拘らずω_BPにおける変化を説明できることを実験的に示した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： Raman散乱 ,  *ケイ酸塩ガラス ,  金属イオン ,  周波数 ,  式
準シソーラス用語： *ボゾンピーク ,  数式表現

分類 (1件)： ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z)

引用文献 (36件)：

• 1) W. L. Barnes, R. I. Laming, E. J. Tarbox and P. R. Morkel, IEEE J. Quantum Electron., 27, 1004 (1991).
• 2) T. Fujiwara, M. Takahashi and A. J. Ikushima, Appl. Phys. Lett., 71, 1032 (1997).
• 3) T. Mizoguchi, S. D. Findlay, A. Masuno, Y. Saito, K. Yamaguchi, H. Inoue and Y. Ikuhara, ACS Nano, 7, 5058 (2013).
• 4) V. K. Malinovsky and A. P. Sokolov, Solid State Commun., 57, 757 (1986).
• 5) W. A. Phillips, (Ed.) Amorphous Solids: Low-Temperature Properties, Springer Verlag, New York (1981).

タイトルに関連する用語 (5件)： ケイ酸塩ガラス ,  低周波 ,  Raman散乱 ,  ボゾンピーク ,  表現