URATA Chihiro について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
MASHEDER Benjamin について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
CHENG Dalton F. について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
MIRANDA Daniel F. について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
DUNDERDALE Gary J. について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
MIYAMAE Takayuki について
AIST, Ibaraki, JPN について
HOZUMI Atsushi について
National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Nagoya, JPN について
Langmuir について
流動解析 について
機構 について
ゾル-ゲル法 について
基 について
接触角 について
傾斜角 について
液滴 について
物質移動 について
濡れ について
スペクトロスコピー について
誘電率 について
配座転移 について
表面エネルギー について
固液界面 について
気固界面 について
アルキル基 について
複合膜 について
界面張力 について
シリル基 について
ディウェッティング について
液滴移動 について
表面濡れ性 について
立体配座変化 について
流動機構 について
和周波発生分光法 について
固-液界面 について
固体の表面構造一般 について
膜流,液滴,気泡,キャビテーション について