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J-GLOBAL ID：201402272452115540   整理番号：13A1951953

<20eV電子照射DNAにおける酸素固定の開始剤としての過渡的負イオン

Note: Transient negative ions as initiators of oxygen fixation in <20 eV electron-irradiated DNA

著者 (3件)： MASSEY Sylvain (Groupe en sciences des radiations, Fac. de medecine et des sciences de la sante, Univ. de Sherbrooke, Sherbrooke ...) ,  BASS Andrew D. (Groupe en sciences des radiations, Fac. de medecine et des sciences de la sante, Univ. de Sherbrooke, Sherbrooke ...) ,  SANCHE Leon (Groupe en sciences des radiations, Fac. de medecine et des sciences de la sante, Univ. de Sherbrooke, Sherbrooke ...)
資料名： Journal of Chemical Physics  (Journal of Chemical Physics)
巻： 139  号： 18  ページ： 186101-186101-2  発行年： 2013年11月14日 
JST資料番号： C0275A  ISSN： 0021-9606  CODEN： JCPSA6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Au/Si基板上にDNA(5′AAAGGACAAA-3′ホスホチオラート単一ストランドオリゴヌクレオチド)の単分子膜(SAM)を接合し,¹⁸O₂の共存下または非共存下で,低エネルギー(0.1~20eV)の電子を照射してH^-イオンと¹⁸O^-イオンの生成を調べた。1)照射電子エネルギーの関数としてのDNA SAMからのH^-の収率,2)DNA SAMを電子で予備照射(¹⁸O₂非共存下)した場合の予備照射エネルギー(E_p)の関数としての¹⁸O^-の収率(Y(¹⁸O^-)の積算値,3)dY(¹⁸O^-)/dE_pを示した。DNA上のO₂の固定は,最初,DNAの炭化水素含有領域からの脱水素で始まり,生成したラジカルはペルオキシラジカルを生成してO^-を発生することが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *DNA【核酸】 ,  *単分子層 ,  *電子照射 ,  エネルギー依存性 ,  酸素18 ,  *酸素 ,  水素 ,  *アニオン ,  反応機構 ,  ラジカル ,  脱水素 ,  ペルオキシド ,  収率 ,  エネルギー ,  脱着 ,  DNA損傷 ,  *電子刺激脱離 ,  オリゴヌクレオチド
準シソーラス用語： 化学収率 ,  *酸素イオン ,  低エネルギー ,  *電子刺激脱着 ,  ペルオキシラジカル ,  単分子膜

分類 (3件)： 電子と分子の衝突・散乱  (BH07030A) ,  荷電体衝撃・放電による反応  (CB06020R) ,  核酸一般  (EB04010U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 電子照射 ,  DNA ,  酸素 ,  開始剤 ,  負イオン