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J-GLOBAL ID：201402273086389434   整理番号：14A1463557

スプレー熱分解法によるSnO₂系透明導電膜の成長メカニズムの解明

Crystal Growth Mechanism of Tin Dioxide Thin Film by Spray Pyrolysis Method

著者 (3件)： 小嶋稔 (宮崎大) ,  吉野賢二 (宮崎大) ,  碇哲雄 (宮崎大)
資料名： 宮崎大学工学部紀要(Web)  (Memoirs of Faculty of Engineering, University of Miyazaki (Web))
号： 42  ページ： 95-102 (WEB ONLY)  発行年： 2013年08月30日 
JST資料番号： U0521A  ISSN： 0540-4924  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： スプレー熱分解法でフッ素ドープSnO₂膜を作製し,特性の実測評価と分子シミュレーションによる検討を行った。スプレー原料は四塩化スズ水和物(SnCl₄・5H₂O)とフッ化アンモニウム(NH₄F)の溶液であり,溶媒はエタノールとメタノールである。500°Cに加熱したガラス基板上に成膜した。塗布時間を変えて,膜厚は70nm~1550nmまで変化させた。キャリヤ密度は膜厚に依存せず一定であったが,移動度は膜厚とともに増加した。膜厚が大きいとき,長波長域での光吸収率が増加した。プラズマ周波数の計算から,プラズマ共鳴吸収であると思われる。膜が薄いとき(110)面に配向していたが,膜厚増加に従って(200)・(101)面への配向が強まった。この配向傾向は,分子シミュレーションで得た解離エネルギー値で説明できる。

シソーラス用語： *透明導電膜 ,  *熱分解 ,  *酸化スズ ,  *化学蒸着 ,  *ドーピング ,  フッ素 ,  シミュレーション ,  塩化スズ ,  フッ化アンモニウム ,  基板 ,  ガラス ,  膜厚 ,  塗布 ,  時間依存性 ,  依存性 ,  *キャリア密度 ,  *キャリア移動度 ,  *光吸収 ,  結晶方位 ,  配向 ,  *スプレー熱分解 ,  分子シミュレーション ,  膜厚依存性
準シソーラス用語： プラズマ共鳴吸収

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： スプレー ,  SnO2 ,  透明導電膜 ,  成長メカニズム