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J-GLOBAL ID：201402274733932508   整理番号：14A1378399

多糖類-ビスマス-セルロースナノ複合材料を使用した非晶質ナノ粒子ビスマスの光還元生成

Photoreductive generation of amorphous bismuth nanoparticles using polysaccharides - Bismuth-cellulose nanocomposites

著者 (8件)： BREITWIESER Doris (Inst. for Chemistry, Univ. of Graz, Heinrichstrasse 24, 8010 Graz, AUT) ,  KRIECHBAUM Margit (Johannes-Kepler-University Linz, Inst. of Inorganic Chemistry, Altenbergerstrasse 69, 4040 Linz, AUT) ,  EHMANN Heike M.A. (Inst. for Chemistry, Univ. of Graz, Heinrichstrasse 24, 8010 Graz, AUT) ,  MONKOWIUS Uwe (Johannes-Kepler-University Linz, Inst. of Inorganic Chemistry, Altenbergerstrasse 69, 4040 Linz, AUT) ,  COSERI Sergiu (“Petru Poni” Inst. of Macromolecular Chemistry, Aleea Grigore Ghica Voda 41A, 700487 Iasi, ROM) ,  SACARESCU Liviu (“Petru Poni” Inst. of Macromolecular Chemistry, Aleea Grigore Ghica Voda 41A, 700487 Iasi, ROM) ,  SPIRK Stefan (Graz Univ. of Technol., Inst. for Chemistry and Technol. of Materials, Stremayrgasse 9, 8010 Graz, AUT) ,  SPIRK Stefan (Univ. of Maribor, Inst. for the Engineering and Design of Materials, Smetanova Ulica 17, 2000 Maribor, SVN)
資料名： Carbohydrate Polymers  (Carbohydrate Polymers)
巻： 116  ページ： 261-266  発行年： 2015年02月13日 
JST資料番号： E0961A  ISSN： 0144-8617  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光還元法を用いた多糖類マトリックスに組み込まれた非晶質ビスマスナノ粒子の単純かつ再現性の高い合成を解説した。Biナノ粒子の生成のための前駆体として,有機可溶性トリフェニルビスマスを用いた。前駆体をトルエンに溶解し,高DS_Siを有する疎水性有機可溶性多糖類,すなわちトリメチルシリル化セルロース(TMSC)と混合した。この溶液を,BiPh₃中のビスマス-炭素結合の均一開裂を誘導し,Bi⁰およびフェニルラジカルの生成をもたらすUV曝露に供した。Bi原子の集合体は,TMSCマトリックス内で制御可能であり,またTEMによって明らかにされる様に,約20nmの粒子径の収量が制御可能であった。フェニルラジカルは,凍結乾燥および高真空への曝露後,ナノ複合材料から除去可能なベンゼンおよびビフェニルなどの小有機分子を形成するための組換えを受けた。最後に,TMSCマトリックスは,TMSC誘導体からのトリメチルシリル基を除去する塩酸蒸気への曝露後にセルロースに変換された。TMSCがセルロースに変換されたが,形成したTMS-OHは,ナノ複合材料から脱離せず,その代りTEM/EDXにより証明される様に,シリル化Biナノ粒子を形成するBiナノ粒子の表面酸化層と反応した。Copyright 2014 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ビスマス ,  *ナノ複合材料 ,  *非晶質 ,  *ナノ粒子 ,  *セルロース ,  *光還元 ,  多糖類 ,  高分子有機-無機ハイブリッド ,  紫外線照射 ,  露光 ,  高分子反応 ,  化学修飾 ,  シリル化 ,  ビスマス化合物 ,  有機ビスマス化合物 ,  開裂反応 ,  グラフト化【化学修飾】 ,  アリールラジカル
準シソーラス用語： *光還元反応

分類 (3件)： 多糖類  (CF10054P) ,  木材化学  (FF05040V) ,  高分子と低分子との反応  (CG03020L)

物質索引 (3件)： トリフェニルビスマス(III) ,  トリメチルシラノール ,  フェニルラジカル

タイトルに関連する用語 (7件)： 多糖類 ,  ビスマス ,  セルロース ,  ナノ複合材料 ,  非晶質 ,  ナノ粒子 ,  光還元