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J-GLOBAL ID：201402274825896788   整理番号：14A0296988

SEM測定のナノマニュファクチャリング上の懸念 I 画像とその測定

Nanomanufacturing Concerns about Measurements made in the SEM I: Iomaging and its Measurement

著者 (2件)： POSTEK Michael T. (National Inst. Standards and Technol., MD) ,  VLADAR Andras E. (National Inst. Standards and Technol., MD)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8819  ページ： 88190B.1-88190B.7  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高分解能SEMは,ナノ技術およびナノマニュファクチャリング両方への定性的および定量的応用にとって有用である。しかし,ユーザはこの機器による画像や測定について不安がないであろうか。恐らく,少なくともこれらの測定におけるいくらかの不確実性を理解しているに違いない。SEM測定における信頼性は,過去数年にわたり,特にSEMが製造過程を監視する半導体プロセスラインの主要な道具として使われるようになって以来,大幅に改善された。これらのニーズは装置およびその能力の急速な進歩を促進した。過去20年ほどにわたり,装置製造業者は半導体産業の研究開発への投資を通じて装置性能を大きく改善した。しかし,これらのデータはどれほどよいのであろうか。本講演では,SEMを用いた画像と計測に関わる最も重要で大きな問題を議論する。全てのユーザは,重要な定量的な仕事を始める前にこれらの問題について知り,理解する必要がある。

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  計測 ,  *ナノメータ加工 ,  *画像 ,  高分解能 ,  *ナノテクノロジー ,  不確実性 ,  半導体プロセス ,  半導体工業 ,  二次電子放出 ,  フォトマスク ,  ピッチ【機械要素】 ,  幅 ,  製造
準シソーラス用語： 線幅 ,  半導体産業 ,  *ナノマニュファクチャリング

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  顕微鏡法  (BK01040E)

タイトルに関連する用語 (3件)： SEM ,  ナノマニュファクチャリング ,  懸念