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J-GLOBAL ID:201402276166382758   整理番号:14A1095119

気相でのシリカ生成

Gaseous Phase Silica Generation
著者 (2件):
資料名:
巻: 17  号: 3/4  ページ: 99-102  発行年: 2014年06月30日 
JST資料番号: L7759A  ISSN: 1881-9982  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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気相での加水分解でのテトラエトキシシラン(TEES)からのシリカ合成における,合成条件の粒径と粒度に対する影響を,2つのタイプの反応管(還流の有無)で検討した。反応温度と水蒸気流量の増加により,核生成が加速され,生成核の相互付着を防いだ。より球形の小粒子を合成するためには,還流の無いタイプの反応管の方が効果的であった。気相合成された一次粒子の径は,従来法である湿式法と同等であったが,2次粒子の粒度は,遥かに小さかった。
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