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J-GLOBAL ID：201402277476726470   整理番号：13A1960984

マイクロ波シース電圧組合せプラズマにより蒸着させたa-C:HおよびSi-DLCの熱安定性と高温トライボロジー特性

Thermal Stability and High-Temperature Tribological Properties of a-C:H and Si-DLC Deposited by Microwave Sheath Voltage Combination Plasma

著者 (4件)： DENG Xingrui (Dep. of Mechanical Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya Univ.) ,  KOUSAKA Hiroyuki (Dep. of Mechanical Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya Univ.) ,  TOKOROYAMA Takayuki (Dep. of Mechanical Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya Univ.) ,  UMEHARA Noritsugu (Dep. of Mechanical Sci. and Engineering, Graduate School of Engineering, Nagoya Univ.)
資料名： Tribology Online (Web)  (Tribology Online (Web))
巻： 8  号： 4  ページ： 257-264 (J-STAGE)  発行年： 2013年 
JST資料番号： U0046A  ISSN： 1881-2198  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マイクロ波シース電圧組合せプラズマ蒸着を使って,非晶質水素化炭素a-C:Hとケイ素添加ダイヤモンド状炭素Si-DLC膜を作成した。大気中で焼なまし試験を行ってa-C:HおよびSi-DLC膜の熱安定性を調べた。さらに,高温においてSi₃N₄球に対する滑り試験を行って,膜のその場高温トライボロジー特性を調べた。硬度測定とトライボロジー試験から,Si-DLCの方がa-C:Hより熱安定性が良いことが示された。しかし,高温トライボロジー試験では,Si-DLCはa-C:Hより摩擦係数が高く摩耗が多い。したがって,Si-DLCの損傷は接着摩耗のためであり,a-C:Hは研摩摩耗のためである。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： プラズマCVD ,  ダイヤモンド状炭素 ,  炭素材 ,  熱安定性 ,  焼なまし ,  *高温 ,  *トライボロジー ,  硬度 ,  *DLC膜 ,  アブレシブ摩耗 ,  摩擦係数
準シソーラス用語： マイクロ波プラズマCVD ,  非晶質炭素

分類 (1件)： 固体の機械的性質一般  (BL01021C)

引用文献 (19件)：

• [1] Robertson, J., “Diamond-Like Amorphous Carbon,” Material Science and Engineering R, 37, 2002, 129-281.
• [2] Chiu, M. C., Hsieh, W. P., Ho, W. Y., Wang, D.Y. and Shieu, F. S., “Thermal Stability of Cr-Doped Diamond-Like Carbon Films Synthesized by Cathodic Arc Evaporation,” Thin Solid Films, 8, 2005, 258-263.
• [3] Franta, D., Bursikova, V., Ohlidal, I., St’ahel, P., Ohlidal, M. and Necas, D., “Correlation of Thermal Stability of the Mechanical and Optical Properties of Diamond-Like Carbon Films,” Diamond Relat. Mater., 16, 4-7, 2007, 1331-1335.
• [4] Camargo Jr, S. S., Baia Neto, A. L., Santos, R. A., Freire Jr. A. L., Carius, R. and Finger, F., “Improved High-Temperature Stability of Si Incorporated a-C:H Films,” Diamond Relat. Mater., 7, 8, 1998, 1155-1162.
• [5] Damasceno, J. C., Camargo Jr, S. S., Freire Jr, F. L. and Carius, R., “Deposition of Si-DLC Films with High Hardness, Low Stress and High Deposition Rates,” Surf. Coat. Technol., 133-134, 2000, 247-252.

タイトルに関連する用語 (7件)： マイクロ波 ,  シース ,  組合せ ,  プラズマ ,  蒸着 ,  熱安定性 ,  トライボロジー特性