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J-GLOBAL ID:201402280188271868   整理番号:13A1900253

スルフヒドリルシラン修飾酸化黒鉛によるヒ素吸着性能研究

Study on arsenic adsorption performance by sulfhydryl silane modified oxidation graphite
著者 (4件):
資料名:
巻: 32  号:ページ: 810-818  発行年: 2013年 
JST資料番号: C2490A  ISSN: 0254-6108  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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酸化黒鉛によるヒ素吸着性能を改良するため,チオール機能化酸化黒鉛を3-メルカプトプロピルトリメトキシシランによって調製し,ヒ素除去能力を研究した。初期pH,吸着剤用量,温度によるヒ素吸着率への影響を単一因子実験法で研究し,吸着等温式を適合させ,次に吸着動態と熱力学を研究した。結果は,ヒ素初期濃度が4mg・L(-1)であった時,水溶液でのヒ素の除去率が97.7%まで達したことを示した。吸着等温式はLangmuirモデルとFreundlichモデルに適合し,最大吸着性能は45°CでのLangmuirモデルの24.45mg・g(-1)であった。動態曲線適合擬二次モデルと内部拡散モデルは,高濃度のヒ素吸着動態と一致した。吸着熱力学研究は,吸着過程が自発的吸熱反応であり,化学吸着が優先であったことを示した。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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