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J-GLOBAL ID：201402280697003511   整理番号：14A0218492

ケイ素基板上のTiO₂導波路を用いる非熱導波路設計における熱応力の役割

Role of Thermal Stress in Athermal Waveguide Design Using TiO₂ Waveguides on a Silicon Substrate

著者 (4件)： BOVINGTON J. T. (Univ. California Santa Barbara, California, USA) ,  WU R. (Univ. California Santa Barbara, California, USA) ,  CHENG K. T. (Univ. California Santa Barbara, California, USA) ,  BOWERS J. E. (Univ. California Santa Barbara, California, USA)
資料名： Annual Meeting of the IEEE Photonics Society  (Annual Meeting of the IEEE Photonics Society)
巻： 2013  ページ： 219-220  発行年： 2013年 
JST資料番号： T0931A  ISSN： 1092-8081  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 熱安定性は実際の素子で非常に重要である。最近TiO₂が非熱導波用の高分子代替物質としてCMOS適合物質として示唆された。これは,ー(1-6.5)×10^-4K^-1の強い負の熱光学係数(MTOC)(1/n・dn/dT)による。そこでTiO₂をコアとするリング共振器を作製した。プラズマ支援の蒸着SiO₂によりクラッドされた埋め込みTiO₂導波路の熱光学係数(WTOC)は,約10^-6K^-1であった。従って熱-応力-光学(TSO)効果が導波路の熱光学係数に大きく影響し,負の熱光学係数の材料を用いても導波路の熱光学係数が十分小さくならないことを示した。ケイ素基板上のSiO₂被覆にTiO₂をスパッタ蒸着させ,Si₃N₄をウエハ両側に低圧化学蒸着させた。SiO₂を300°Cで蒸着後,リソグラフィーにより埋め込み導波路とリング共振器を作製した。共振シフトは-2.9pm/Kであった。理論解析によりTSO効果の重要性を示した。

シソーラス用語： *酸化チタン ,  *光導波路 ,  *リング共振器 ,  *CMOS構造 ,  埋込み【挿入】 ,  二酸化ケイ素 ,  サンドイッチ構造 ,  熱光学効果 ,  *熱応力 ,  基板 ,  ケイ素 ,  リソグラフィー
準シソーラス用語： 熱応力光学効果

分類 (1件)： その他の光デバイス  (BD06060O)

タイトルに関連する用語 (6件)： ケイ素基板 ,  TiO2 ,  導波路 ,  設計 ,  熱応力 ,  役割