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J-GLOBAL ID：201402287616864636   整理番号：14A0897617

ミニマル集光型加熱炉

著者 (5件)： 三浦典子 (ミニマルファブ技術研究組合) ,  池田伸一 ,  原史朗 ,  大西康弘 (米倉製作所) ,  大西康弘 (ミニマルファブ技術研究組合)
資料名： クリーンテクノロジー  (Clean Technology)
巻： 24  号： 8  ページ： 68-70  発行年： 2014年08月10日 
JST資料番号： L1138A  ISSN： 0917-1819  CODEN： KTEKER  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体の製造工程では様々な熱処理があり,バッチ式の抵抗加熱炉が主流である。これに対して,ミニマルファブで用いるウエハの口径は12.5mmであり,ランプのスポット系よりも小さいため,反射鏡でウエハに熱エネルギーを集中させる集光加熱方式を用いることにより,1つのランプで効率よく加熱できる。この方式では,ウエハ周辺だけを局所的に加熱するため,迅速な昇降温が可能であり,また,加熱チャンバの小型化が容易である。この点に着目して,集光加熱方式を用いた加熱炉を開発することにした。この加熱炉の構造と利点,開発課題と対策について述べた。

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  *加熱炉 ,  技術開発 ,  製品開発 ,  温度制御 ,  温度分布
準シソーラス用語： *ミニマルファブ ,  *集光が型加熱炉

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (1件)： 集光