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J-GLOBAL ID:201402289825968956   整理番号:14A1138184

すれすれ角で堆積させたウエハスケールの三次元ヘリカル多孔質薄膜

Wafer-scale, three-dimensional helical porous thin films deposited at a glancing angle
著者 (3件):
資料名:
巻:号: 16  ページ: 9401-9409  発行年: 2014年08月21日 
JST資料番号: W2323A  ISSN: 2040-3364  CODEN: NANOHL  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 文献レビュー  発行国: イギリス (GBR)  言語: 英語 (EN)
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螺旋状コイルは,種々の特性の故に注目を集めている。本論文では,すれすれ角で堆積させたウエハスケールの三次元ヘリカル多孔質薄膜について概説した。螺旋の小型化は,光学素子,機械素子,および電子素子のサイズ縮小による新機能の導出をもたらす。すれすれ角蒸着(GLAD)は,分離したミクロ/ナノ柱からなる三次元的なヘリカル多孔質薄膜(HPTF)の調製を可能にした。この方法は,一段階堆積,左または右手系だけの螺旋を有するウエハスケールの製造,柔軟な加工,種々の基板への適応など,多くの長所を有することを記した。GLAD法によるHPTFの製造,成長機構,物理特性,グリーンエネルギーでの応用,などを簡単に論じた。
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分類 (1件):
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薄膜成長技術・装置 
物質索引 (1件):
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