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J-GLOBAL ID：201402293062055668   整理番号：14A1275393

RCWAおよびPMLによる分離マウント光波散乱計測

Isolation Mounts Scatterometry with RCWA and PML.

著者 (1件)： SHIRASAKI Hirokimi (Tamagawa Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 9050  号： Pt.2  ページ： 90502K.1-90502K.7  発行年： 2014年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光波散乱計測解析のためのRCWA(厳密結合波解析)は周期性を用いた二次元解析に適しているため,逆光波散乱計測解析において周期構造は主に二次元平面で解析されている。本論文では,RCWAにおけるPML(完全整合層)応用による基板上の分離マウントに対する光波散乱計測の感度試験につき報告した。シリコン基板上のシリコン/レジスト単一マウントおよびシリコン二重マウントからの反射率を解析した。最初に反射率のモード収束およびビーム幅依存性を調査した。反射率のモード収束は良好であった。次にシリコン基板上の分離マウントにおける電磁場伝搬特性を示した。分離マウントからの散乱アスペクトを構築することができた。こうして光波散乱計測観測が分離マウントにおいていくつかの数十ミクロンビーム幅を用いた可能性ある手法であることが分かった。

シソーラス用語： 電磁場解析 ,  層 ,  台 ,  *形状測定 ,  *光学的測定 ,  感受性試験 ,  *ウエハ【IC】 ,  反射率 ,  幅
準シソーラス用語： シリコン基板 ,  ビーム幅 ,  マウント ,  完全整合層 ,  厳密結合波解析 ,  *光波散乱計測

分類 (2件)： 固体デバイス計測・試験・信頼性  (NC03040G) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (4件)： RCWA ,  PML ,  マウント ,  光波散乱計測