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J-GLOBAL ID：201402294095997231   整理番号：13A1900977

小入射角堆積によるパターン化銅膜の自己集合

Self-assembly of patterned copper films by small incident angle deposition

著者 (4件)： Li Xingxing (Dep. of Electronic Sci. and Engineering, School of Mathematics and Physics, Changzhou Univ., Changzhou) ,  Jiang Meiping (Dep. of Electronic Sci. and Engineering, School of Mathematics and Physics, Changzhou Univ., Changzhou) ,  Zhu Xianfang (China-Australia Joint Lab. for Functional Nanomaterials & Physics Dep., Xiamen Univ., Xiamen) ,  Su Jiangbin (Dep. of Electronic Sci. and Engineering, School of Mathematics and Physics, Changzhou Univ., Changzhou)
資料名： Kexue Tongbao  (Kexue Tongbao)
巻： 58  号： 18  ページ： 1764-1768  発行年： 2013年 
JST資料番号： C2016A  ISSN： 0023-074X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 中国 (CHN)  言語： 中国語 (ZH)

抄録/ポイント： 本研究では,パターン化銅膜を作る小入射角堆積(SIAD)技術を開発した。作られたパターン化銅膜を冶金学的顕微鏡検査,スキャン電子顕微鏡観察,透過型電子顕微鏡,エネルギー分散X線分光法,およびX線回折によって特性評価した。SIADによって形成された銅鉱床と垂直入射分布の間の形態学的および構造的差異の分析により,パターン化銅膜の形成機構が明らかになった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST

シソーラス用語： *パターン形成 ,  *入射角 ,  *銅 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  電子顕微鏡観察 ,  走査 ,  入射 ,  キャラクタリゼーション ,  機構 ,  モルフォロジー ,  金属工学
準シソーラス用語： *パターン化 ,  エネルギー分散X線分光法 ,  スキャン ,  垂直入射 ,  特性評価 ,  形成機構 ,  形態学 ,  冶金学

分類 (1件)： 金属の結晶成長  (BK13030M)

タイトルに関連する用語 (5件)： 入射角 ,  堆積 ,  パターン化 ,  銅 ,  自己集合