特許
J-GLOBAL ID:201403002103049820

レーザ位相雑音測定装置及びその測定方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 蔵田 昌俊 ,  小出 俊實 ,  峰 隆司 ,  野河 信久
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-186991
公開番号(公開出願番号):特開2014-045096
出願日: 2012年08月27日
公開日(公表日): 2014年03月13日
要約:
【課題】 帯域制限を拡張したレーザの位相雑音を容易に測定可能とする。【解決手段】 サンプリングパルス光を共有する光90度ハイブリッド6-1,6-2を2系列用いることで、サンプリングパルス光の位相雑音を除去し、2つのレーザ(レーザ光1、レーザ光2)の位相雑音のみを解析することを可能とするものである。これにより、帯域はサンプリングパルス光のスペクトルによって決定されることから、レーザ光1とレーザ光2のスペクトルがサンプリングパルス光のスペクトルと重なり合っていれば測定が可能となり、レーザ光1とレーザ光2の中心周波数差が大きな場合であっても、位相雑音の測定が可能となる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
第1及び第2の被測定レーザそれぞれで発生される第1及び第2のレーザ光のFM雑音、位相雑音の二乗平均を測定するレーザ位相雑音測定装置であって、 前記第1及び第2の被測定レーザそれぞれで発生される第1及び第2のレーザ光それぞれのスペクトルと重なり合うスペクトルを有する短パルスのサンプリングパルス光を繰返し発生するサンプリングパルス光発生手段と、 前記サンプリングパルス光を2分岐する分岐手段と、 前記分岐手段により2分岐されたサンプリングパルス光が通過する2つの光路長を調整する光路長調整手段と、 前記サンプリングパルス光と前記第1のレーザ光を干渉させて第1の干渉光を生成し、その同相成分と直交成分から前記第1の干渉光に対応する第1の光電流を得る第1の光電流抽出手段と、 前記サンプリングパルス光と前記第2のレーザ光を干渉させて第2の干渉光を生成し、その同相成分と直交成分から前記第2の干渉光に対応する第2の光電流を得る第2の光電流抽出手段と、 前記第1の光電流及び前記第2の光電流をそれぞれ信号データとして取得するデータ取得手段と、 前記取得した第1及び第2の光電流の信号データの位相をそれぞれ解析する位相解析手段と、 前記位相解析した第1または第2の信号データからそれぞれ前記サンプリングパルス光の位相雑音を除去した上で、前記第1または第2の被測定レーザのFM雑音、位相雑音の二乗平均を計算する位相雑音計算手段と を具備することを特徴とするレーザ位相雑音測定装置。
IPC (1件):
H01S 3/00
FI (1件):
H01S3/00 G
Fターム (3件):
5F172DD06 ,  5F172NP02 ,  5F172NP18
引用特許:
審査官引用 (1件)
引用文献:
審査官引用 (3件)
  • Characterization of semiconductor-laser phase noise and estimation of bit-error rate performance wit
  • Characterization of semiconductor-laser phase noise and estimation of bit-error rate performance wit
  • Characterization of semiconductor-laser phase noise and estimation of bit-error rate performance wit

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