特許

J-GLOBAL ID：201403002505138234

新規な吸光剤及びこれを含む有機反射防止膜形成用組成物

発明者： チェ ジュン フン ,  イ ウン キョ ,  イ ジン ハン ,  ハン ウン ヒ ,  キム サム ミン
出願人/特許権者： コリア クンホ ペトロケミカル カンパニー リミテッド
代理人 (1件)： 藤田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-183179
公開番号（公開出願番号）：特開2014-118409
出願日： 2013年09月04日
公開日（公表日）： 2014年06月30日
要約：

【課題】微細パターンの形成が要求されるリソグラフィ、特に248nmのKrFエキシマレーザーを用いた超微細パターン形成のリソグラフィ工程において、露光時に発生する反射光に対する吸収性に優れ、有機反射防止膜の形成及びこれを用いた半導体素子の微細パターンの形成に有用な吸光剤及びこれを含む有機反射防止膜形成用組成物を提供する。【解決手段】下記構造を有する吸光材。Aは単一結合、又は、飽和炭化水素鎖、B1及びB2はH、又は飽和炭化水素鎖でAと環状化しても良い、Ra〜RdはH、又はアルキル基で、RaとRb及びRcとRdが環状化しても良い、R1〜R4は特定の構造を有する官能基か、又は、R1とR2及びR3とR4の内、1つは互いに連結され、ジヒドロ-2,5-フランジオン構造を形成しても良い。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)の構造を有する吸光剤。

IPC (7件)：

C07C 69/353 ,  G03F 7/11 ,  G03F 7/004 ,  C07C 69/74 ,  C07C 69/757 ,  C09K 3/00 ,  H01L 21/027

FI (8件)：

C07C69/353 ,  G03F7/11 502 ,  G03F7/11 503 ,  G03F7/004 506 ,  C07C69/74 Z ,  C07C69/757 Z ,  C09K3/00 104Z ,  H01L21/30 574

Fターム (17件)：

2H125AN02N ,  2H125AN29N ,  2H125AN39N ,  2H125AN51N ,  2H125BA10N ,  2H125BA24N ,  2H125CA12 ,  2H125CB08 ,  2H125DA02 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92 ,  4H006BJ20 ,  4H006BJ30 ,  4H006BS10 ,  4H006BS20 ,  5F146PA11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 吸光剤およびそれを含む有機反射防止膜組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2008-147793   出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
• 開環した無水フタル酸を含む有機反射防止膜組成物およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-009355   出願人：コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド