特許
J-GLOBAL ID：201403003823177059
ガラス質材料からなる平面基板の構造化方法及び光学素子
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
平木 祐輔
, 藤田 節
, 新井 栄一
, 田中 夏夫
, 菊田 尚子
, 小原 淳史
, 藤井 愛
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-525340
公開番号（公開出願番号）：特表2014-529564
出願日： 2012年08月02日
公開日（公表日）： 2014年11月13日
要約：
ガラス質材料からなる平面基板の粘性流動プロセスを介した構造化方法であって、ガラス質平面基板を、表面にある周縁部によって画定された少なくとも1つの窪みを有する平面基板、好ましくは半導体平面基板の表面上に接合し、それに続く熱処理プロセスを介して粘性流動可能な状態に変え、平面基板の粘性流動可能なガラス質材料の少なくとも一部が周縁部上から平面基板の窪みへと流入する構造化方法が記載される。本発明は、の少なくとも1つの窪みが少なくとも1つの濡れ面を有する平面基板を用意することであって、その濡れ面は、平面基板の表面に対して下方にあり、かつ少なくとも部分的に線状縁部によって画定されており、その線状縁部は、同時に濡れ面に対して下方にあり窪みの内側に設けられた溝構造の一つの縁部でもあり、かつ/又は濡れ面に帰属できる、流動可能なガラス質材料についての濡れ特性の不連続な変化によって決められていることと、熱処理プロセスの間に、流動可能なガラス質材料は濡れ面と、線状縁部に沿って濡れ先頭部が形成されるように接触されることと、熱処理プロセスは、濡れ先頭部と周縁部との間で平面基板と接触せずに延びている、窪みの部分領域とともに空隙を取り囲むガラス質材料の表面が形成されたら終了させることとを特徴とする。【選択図】図1d
請求項（抜粋）：
ガラス質材料からなる平面基板の粘性流動プロセスを介した構造化方法であって、前記ガラス質平面基板を、表面にある周縁部によって画定された少なくとも1つの窪みを有する平面基板の表面上に接合し、それに続く熱処理プロセスを介して粘性流動可能な状態に変え、前記平面基板の粘性流動可能なガラス質材料の少なくとも一部が前記周縁部上から半導体平面基板の前記窪みへと流入する前記構造化方法において、
少なくとも1つの窪みが少なくとも1つの濡れ面を有する平面基板を用意することであって、前記濡れ面は、前記平面基板の表面に対して下方にあり、かつ少なくとも部分的に線状縁部によって画定されており、前記線状縁部は、同時に前記濡れ面に対して下方にあり、窪みの内側に設けられた溝構造の一つの縁部でもあり、かつ/又は前記濡れ面に帰属できる、前記流動可能なガラス質材料についての濡れ特性の不連続な変化によって決められていることと、
前記熱処理プロセスの間に前記流動可能なガラス質材料は、前記濡れ面と、前記線状縁部に沿って濡れ先頭部が形成されるように接触されることと、
前記熱処理プロセスは、濡れ先頭部と前記周縁部との間で平面基板と接触せずに延びている、窪みの部分領域とともに空隙を取り囲むガラス質材料の表面が形成されたら終了させることと、
を特徴とする、前記構造化方法。
IPC (5件)：
C03B 23/02
, C03C 27/02
, H01L 31/023
, H01S 5/022
, G02B 3/00
C03B23/02
, C03C27/02 Z
, H01L31/02 D
, H01S5/022
, G02B3/00 Z
4G015AA01
, 4G015AB01
, 4G061AA25
, 4G061BA07
, 4G061CA03
, 4G061CC01
, 4G061CD02
, 4G061CD16
, 5F088BB01
, 5F088JA01
, 5F088JA12
, 5F173MC22
, 5F173MC30
, 5F173MD03
, 5F173ME02
, 5F173ME14
, 5F173ME15
, 5F173ME21
, 5F173ME31
, 5F173ME83
, 5F173ME85
, 5F173MF03
, 5F173MF28
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (6件)
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