特許
J-GLOBAL ID:201403004297640403

ヘパラン-N-スルファターゼを精製するためのプロセス

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件): 山本 秀策 ,  森下 夏樹 ,  飯田 貴敏 ,  石川 大輔 ,  山本 健策
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2014-511591
公開番号(公開出願番号):特表2014-517692
出願日: 2012年05月18日
公開日(公表日): 2014年07月24日
要約:
ヘパラン-N-スルファターゼを調製および精製するためのプロセスが開示される。上記プロセスは、ヘパラン-N-スルファターゼを非常に純粋なヘパラン-N-スルファターゼを精製する条件下で生成もしくは精製するためのクロマトグラフィー工程を包含する。一局面において、ヘパラン-N-スルファターゼを精製するための方法が提供され、該方法は、a)ヘパラン-N-スルファターゼ組成物とアニオン交換クロマトグラフィー樹脂とを、該ヘパラン-N-スルファターゼが吸着される条件下で接触させる工程;b)吸着された該ヘパラン-N-スルファターゼを、該アニオン交換クロマトグラフィー樹脂から溶出する工程などを包含する。
請求項(抜粋):
ヘパラン-N-スルファターゼを精製するための方法であって、該方法は、 a)ヘパラン-N-スルファターゼ組成物とアニオン交換クロマトグラフィー樹脂とを、該ヘパラン-N-スルファターゼが吸着される条件下で接触させる工程; b)吸着された該ヘパラン-N-スルファターゼを、該アニオン交換クロマトグラフィー樹脂から溶出する工程; c)工程b)から得られた該ヘパラン-N-スルファターゼ組成物と、疎水性相互作用クロマトグラフィー樹脂とを接触させる工程; d)吸着された該ヘパラン-N-スルファターゼを、該疎水性相互作用クロマトグラフィー樹脂から溶出する工程; e)工程d)から得られた該ヘパラン-N-スルファターゼ組成物とヒドロキシアパタイトクロマトグラフィー樹脂とを接触させる工程; f)吸着された該ヘパラン-N-スルファターゼを、該ヒドロキシアパタイトクロマトグラフィー樹脂から溶出する工程; g)工程f)から得られた該ヘパラン-N-スルファターゼ組成物とカチオン交換クロマトグラフィー樹脂とを接触させる工程;および h)吸着された該ヘパラン-N-スルファターゼを、該カチオン交換クロマトグラフィー樹脂から溶出する工程、 を包含する、方法。
IPC (1件):
C12N 9/16
FI (1件):
C12N9/16 Z
Fターム (6件):
4B050CC03 ,  4B050DD11 ,  4B050FF05C ,  4B050FF09C ,  4B050FF11C ,  4B050LL01
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
引用文献:
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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