特許

J-GLOBAL ID：201403004671038682

非線形光学活性コポリマー

発明者： 横山 士吉 ,  山本 和広 ,  前田 大輔
出願人/特許権者： 国立大学法人九州大学 ,  日産化学工業株式会社
代理人 (4件)： 萼 経夫 ,  宮崎 嘉夫 ,  加藤 勉 ,  伴 知篤
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-287143
公開番号（公開出願番号）：特開2014-130196
出願日： 2012年12月28日
公開日（公表日）： 2014年07月10日
要約：

【課題】非線形光学材料の配向緩和を抑制でき、且つ、種々の溶剤に対する高い耐性を有する非線形光学活性コポリマー、及び該コポリマーを用いて得られる非線形光学材料を提供する。【解決手段】同一分子内に、ブロック剤で保護されたイソシアネート基を有する式[1]で表される繰り返し単位A、及び非線形光学活性部位を有する式[2]で表される繰り返し単位B、を含む非線形光学活性コポリマー及び該コポリマーを用いて得られる非線形光学材料。(式中、R1及びR2はそれぞれ独立して、水素原子又はメチル基を表し、L1及びL2はそれぞれ独立して、エーテル結合及び/又はエステル結合を含んでいてもよい炭素原子数1乃至30の二価の炭化水素基を表し、Yはブロック剤で保護されたイソシアネート基を表し、Zは非線形光学活性を発現する原子団を表す。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

同一分子内に、ブロック剤で保護されたイソシアネート基を有する式[1]で表される繰り返し単位A、及び非線形光学活性部位を有する式[2]で表される繰り返し単位B、を含む非線形光学活性コポリマー。

IPC (2件)：

G02F 1/361 ,  C08F 120/36

FI (2件)：

G02F1/361 ,  C08F120/36

Fターム (25件)：

2K002AB09 ,  2K002BA06 ,  2K002CA06 ,  2K002DA08 ,  2K002EB03 ,  2K002FA08 ,  2K002FA17 ,  2K002GA10 ,  2K002HA15 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA28Q ,  4J100BA36P ,  4J100BA38Q ,  4J100BA40Q ,  4J100BB18Q ,  4J100BC43Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC73P ,  4J100BC83Q ,  4J100CA04 ,  4J100DA66 ,  4J100JA32 ,  4J100JA43

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-185880   出願人：独立行政法人情報通信研究機構

審査官引用 (1件)

• 光導波路及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2012-185880   出願人：独立行政法人情報通信研究機構