特許

J-GLOBAL ID：201403004726482692

減衰装置

発明者： マルクス ハウフ
出願人/特許権者： カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
代理人 (3件)： 杉村 憲司 ,  下地 健一 ,  坪内 伸
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-523297
公開番号（公開出願番号）：特表2014-529043
出願日： 2012年07月30日
公開日（公表日）： 2014年10月30日
要約：

本発明は、システム、特にマイクロリソグラフィック投影露光装置における素子の振動エネルギーを消散させる減衰装置であって、減衰装置は安定な装着手段により素子( 110、 210、 310、 410、 510、 610、 710)に対して装着された振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)を具えており、減衰装置では、振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)が素子内に存在する空洞内に配置されているとともに、空洞内に存在する流体(120、 220、 320、 420、 520、 620、 720)により少なくとも部分的に囲まれており、振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)により質量-ばねシステムが形成され、質量-ばねシステムは、振動吸収体質量( 115、 215、 315、 415、 515、 615、 715)の連結点に存在する素子( 110、 210、 310、 410、 510、 610、 710)の振動の並進運動成分を減衰させるようになっており、安定な装着手段は、電気的に制御しうる又は電界或いは磁界を介して制御しうるレオロジー流体で形成されている、減衰装置に関するものである。

請求項（抜粋）：

マイクロリソグラフィック投影露光装置とするのが好ましいシステムにおける素子の振動エネルギーを消散させる減衰装置であって、この減衰装置は、 -安定な装着手段により前記素子(110、210、310、410、510、610、710)に対して装着された振動吸収体質量(115、215、315、415、515、615、715)を具えており、 この減衰装置では、 -前記振動吸収体質量(115、215、315、415、515、615、715)が前記素子内に存在する空洞内に配置されているとともに、この空洞内に存在する流体(120、220、320、420、520、620、720)により少なくとも部分的に囲まれており、 -前記振動吸収体質量(115、215、315、415、515、615、715)により質量-ばねシステムが形成され、この質量-ばねシステムは、前記振動吸収体質量(115、215、315、415、515、615、715)の連結点に存在する前記素子(110、210、310、410、510、610、710)の振動の並進運動成分を減衰させるようになっており、 -前記安定な装着手段は、電気的に制御しうる又は電界或いは磁界を介して制御しうるレオロジー流体で形成されている、 減衰装置。

IPC (5件)：

F16F 15/02 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  F16F 15/023 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

F16F15/02 C ,  H01L21/30 503F ,  G03F7/20 501 ,  F16F15/023 A ,  H01L21/68 K

Fターム (18件)：

2H097BA10 ,  3J048AA06 ,  3J048AC04 ,  3J048AC08 ,  3J048AD07 ,  3J048BE05 ,  3J048BF01 ,  3J048BF09 ,  3J048CB22 ,  3J048EA07 ,  5F131AA02 ,  5F131AA03 ,  5F131AA32 ,  5F131BA13 ,  5F131CA19 ,  5F131EA02 ,  5F131EA16 ,  5F146AA23

引用特許：

出願人引用 (1件)

• ステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-314690   出願人：株式会社ニコン

審査官引用 (1件)

• ステージ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-314690   出願人：株式会社ニコン