特許

J-GLOBAL ID：201403004773627968

ステージ装置、描画装置および物品の製造方法

発明者： 石川 智規 ,  内田 真司
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (6件)： 大塚 康徳 ,  高柳 司郎 ,  大塚 康弘 ,  木村 秀二 ,  下山 治 ,  永川 行光
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-086059
公開番号（公開出願番号）：特開2014-209521
出願日： 2013年04月16日
公開日（公表日）： 2014年11月06日
要約：

【課題】 磁気の漏洩を低減したステージ装置を提供する。【解決手段】 ステージ装置は、ステージと、前記ステージを駆動するリニアモータと、前記リニアモータの磁石によって発生する磁場を遮蔽するように前記リニアモータを取り囲む磁気シールドユニットと、前記磁気シールドユニットによって取り囲まれる空間に配置されて前記磁気シールドユニットを消磁する消磁コイルと、を備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ステージ装置であって、 ステージと、 前記ステージを駆動するリニアモータと、 前記リニアモータの磁石によって発生する磁場を遮蔽するように前記リニアモータを取り囲む磁気シールドユニットと、 前記磁気シールドユニットによって取り囲まれる空間に配置されて前記磁気シールドユニットを消磁する消磁コイルと、 を備える、ことを特徴とするステージ装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

H01L21/30 515G ,  G03F7/20 504 ,  H01L21/68 K

Fターム (16件)：

2H097AA03 ,  2H097CA16 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA70 ,  5F131EA02 ,  5F131EA14 ,  5F131EA22 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79 ,  5F146CC01 ,  5F146CC03 ,  5F146CC19 ,  5F146CC20