特許
J-GLOBAL ID：201403005031094094

位置ずれ計測方法およびフォトマスク

発明者：
萩尾 義知

萩尾 義知 について

, 
岡本 陽介

岡本 陽介 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 酒井 宏明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-191940
公開番号（公開出願番号）：特開2014-048180
出願日： 2012年08月31日
公開日（公表日）： 2014年03月17日
要約：
【課題】上下層のデバイスパターン間の位置ずれの計測精度を向上させる。【解決手段】下層部1のアライメントマーク1Bを基準に下層部1に形成されるデバイスパターン1Aの位置ずれを計測し、下層部1上の上層部2のアライメントマーク2Bを基準に上層部2に形成されるデバイスパターン2Aの位置ずれを計測し、下層部1のアライメントマーク1Bと上層部2のアライメントマーク2Bとの間の位置ずれを計測し、アライメントマーク1B、2B間の位置ずれに基づいてデバイスパターン1A、2A間の位置ずれを算出する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
下層部のアライメントマークを基準に前記下層部に形成されるデバイスパターンの位置ずれを走査型電子顕微鏡にて計測するステップと、 前記下層部上の上層部のアライメントマークを基準に前記上層部に形成されるデバイスパターンの位置ずれを前記走査型電子顕微鏡にて計測するステップと、 前記下層部のアライメントマークと前記上層部のアライメントマークとの間の位置ずれを光学顕微鏡にて計測するステップと、 前記アライメントマーク間の位置ずれに基づいて前記デバイスパターン間の位置ずれを算出するステップとを備え、 前記上層部または前記下層部に一対の第1パターンと前記第1パターンと位置ずれ量の異なる一対の第2パターンとを有する計測機差補正用パターンが形成され、 前記第1パターンおよび前記第2パターンの位置ずれ量を前記走査型電子顕微鏡にて計測することで、前記走査型電子顕微鏡における位置ずれ量の設計値と測定値との関係を直線近似で求め、前記第1パターンおよび前記第2パターンの位置ずれ量を前記光学顕微鏡にて計測することで、前記光学顕微鏡における位置ずれ量の設計値と測定値との関係を直線近似で求め、それらの結果に基づき前記走査型電子顕微鏡と前記光学顕微鏡との間で計測機差を補正することを特徴とする位置ずれ計測方法。
IPC (3件)：
G01B 15/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 1/42
FI (4件)：
G01B15/00 K ,  H01L21/30 502M ,  H01L21/30 525Z ,  G03F1/42
Fターム (24件)：
2F067AA03 ,  2F067AA15 ,  2F067BB01 ,  2F067BB04 ,  2F067CC16 ,  2F067FF00 ,  2F067FF11 ,  2F067GG08 ,  2F067HH06 ,  2F067JJ05 ,  2F067KK04 ,  2F067KK08 ,  2F067RR31 ,  2F067SS02 ,  2F067SS13 ,  2F067UU32 ,  2F067UU33 ,  2H095BE03 ,  5F146EB01 ,  5F146EC05 ,  5F146FA08 ,  5F146FA17 ,  5F146FA20 ,  5F146FC04
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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