特許
J-GLOBAL ID：201403006108183415
液晶装置の製造方法、液晶装置、及び電子機器
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 須澤 修
, 宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-166726
公開番号（公開出願番号）：特開2014-026140
出願日： 2012年07月27日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
要約：
【課題】表示品質を向上させることができる液晶装置の製造方法、液晶装置、及び電子機器を提供する。【解決手段】第1基材10a上に、第1領域71と、第1領域71よりも表面粗さが粗い第2領域72と、を含む下地膜41(41a,41b)を形成する工程と、下地膜41(41a,41b)上に無機材料からなる配向膜28(28a,28b)を形成する工程と、を有する。【選択図】図6
請求項（抜粋）：
対向配置された一対の基板と、
前記一対の基板を貼り合わせるシール材と、
前記一対の基板に挟持された液晶層と、
前記一対の基板の一方の基板と前記液晶層との間に形成され、第1領域と、前記第1領域の外側に配置された第2領域と、を含む下地膜と、
前記下地膜と前記液晶との間に形成された無機材料からなる無機配向膜と、
を含む液晶装置の製造方法であって、
前記一方の基板上に、前記第1領域と、前記第1領域よりも表面粗さが粗い前記第2領域と、を含む前記下地膜を形成する下地膜形成工程と、
前記下地膜の前記第1領域上と前記第2領域上とに斜方蒸着法で無機材料からなる無機配向膜を形成する配向膜形成工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G02F1/1337 515
, G02F1/1341
, G02F1/1333
2H189AA14
, 2H189DA53
, 2H189DA67
, 2H189FA31
, 2H189FA33
, 2H189HA01
, 2H189HA12
, 2H189LA05
, 2H189LA06
, 2H189MA07
, 2H290BF04
