特許
J-GLOBAL ID:201403009715577405

汚染物質除去用プラズマ反応器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 北村 修一郎 ,  三宅 一郎 ,  太田 隆司
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-147025
公開番号(公開出願番号):特開2013-084561
特許番号:特許第5582657号
出願日: 2012年06月29日
公開日(公表日): 2013年05月09日
請求項(抜粋):
【請求項1】 工程チャンバおよび真空ポンプの間に位置し、低圧プラズマを生成して前記工程チャンバから排出される汚染物質を除去する汚染物質除去用プラズマ反応器であって、 内部にプラズマ生成空間を形成する少なくとも1つの誘電体と、 前記誘電体の少なくとも一端に連結する接地電極と、 前記誘電体の外周面に固定され、交流電源部と連結して交流駆動電圧が印加される少なくとも1つの駆動電極と、を含み、 前記プラズマ反応器の長さ方向に対して垂直な平面で切断した断面における直径を、前記誘電体及び接地電極のそれぞれの直径としたとき、 前記接地電極は、前記プラズマ反応器の長さ方向に沿って非均一直径を有する汚染物質除去用プラズマ反応器。
IPC (2件):
H05H 1/46 ( 200 6.01) ,  B01J 19/08 ( 200 6.01)
FI (2件):
H05H 1/46 M ,  B01J 19/08 E
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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