特許

J-GLOBAL ID：201403010859064613

多孔質チタン薄膜およびその製造方法

発明者： 菅原 智 ,  叶野 治 ,  竹中 茂久 ,  高取 英男 ,  河野 充 ,  吉野 貴彦
出願人/特許権者： 東邦チタニウム株式会社 ,  新日鉄住金化学株式会社
代理人 (1件)： 末成 幹生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-098807
公開番号（公開出願番号）：特開2014-065968
出願日： 2013年05月08日
公開日（公表日）： 2014年04月17日
要約：

【課題】厚さ40μm以下、空隙率1〜65%の多孔質チタン薄膜を安価に製造する方法を提供するものである。【解決手段】本発明の多孔質チタン薄膜の製造方法は、以下の(a)、(b)、(c)、(d)の工程を含むプロセスにより、厚さ40μm以下、空隙率1〜65%の多孔質チタン薄膜を製造する。(a)基材上に、水素化チタン粉末または脱水素チタン粉末を含むチタン原料、バインダー成分、溶剤成分を含むペースト状組成物を塗工・成膜後、溶剤成分を揮発させる乾燥させ乾燥成形体を得る成形体製造工程(b)乾燥成形体を基材から剥離する剥離工程(c)剥離した乾燥成形体を加熱し、バインダー成分を除去する脱バインダー工程(d)脱バインダー後の乾燥成形体を700°C〜1100°Cにて焼結し、多孔質チタン薄膜を得る焼結工程 また、本発明の多孔質チタン薄膜は、上記の多孔質チタン薄膜の製造方法により製造される。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

以下の(a)、(b)、(c)、(d)の工程を含むプロセスにより、厚さ40μm以下、空隙率1〜65%の多孔質チタン薄膜を製造することを特徴とする多孔質チタン薄膜の製造方法。 (a)基材上に、水素化チタン粉末または脱水素チタン粉末を含むチタン原料、バインダー成分、溶剤成分を含むペースト状組成物を塗工・成膜後、溶剤成分を揮発させる乾燥させ乾燥成形体を得る成形体製造工程 (b)乾燥成形体を基材から剥離する剥離工程 (c)剥離した乾燥成形体を加熱し、バインダー成分を除去する脱バインダー工程 (d)脱バインダー後の乾燥成形体を700°C〜1100°Cにて焼結し、多孔質チタン薄膜を得る焼結工程

IPC (6件)：

B22F 3/11 ,  C22C 14/00 ,  C22C 1/04 ,  B22F 3/02 ,  B22F 3/10 ,  C22C 1/08

FI (6件)：

B22F3/11 A ,  C22C14/00 Z ,  C22C1/04 E ,  B22F3/02 M ,  B22F3/10 C ,  C22C1/08 F

Fターム (7件)：

4K018AA06 ,  4K018BA03 ,  4K018BA20 ,  4K018BB04 ,  4K018CA08 ,  4K018DA03 ,  4K018HA08

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 高強度発泡チタン焼結体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-230353   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 金属焼結体の製造方法および金属焼結体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-340943   出願人：株式会社インジェックス
• アルミニウム多孔質焼結体の製造方法およびアルミニウム多孔質焼結体
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-186616   出願人：三菱マテリアル株式会社
• 焼結方法および焼結用治具
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-343115   出願人：東邦チタニウム株式会社