特許
J-GLOBAL ID:201403011065641515

被覆活物質の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山下 昭彦 ,  岸本 達人 ,  山本 典輝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-156848
公開番号(公開出願番号):特開2014-022074
出願日: 2012年07月12日
公開日(公表日): 2014年02月03日
要約:
【課題】本発明は、活物質表面のダメージを抑制しながら被覆層を形成することが可能な被覆活物質の製造方法を提供することを主目的とする。【解決手段】本発明は、活物質と、硫化物固体電解質を含有する被覆層とを備える被覆活物質の製造方法であって、上記活物質と上記硫化物固体電解質とを含有する原料組成物を調製する調製工程と、上記原料組成物に破砕メディアを用いることなく自公転混練処理を行い、上記活物質の表面に上記被覆層を形成する混練工程と、を有することを特徴とする被覆活物質の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
活物質と、硫化物固体電解質を含有する被覆層とを備える被覆活物質の製造方法であって、 前記活物質と前記硫化物固体電解質とを含有する原料組成物を調製する調製工程と、 前記原料組成物に破砕メディアを用いることなく自公転混練処理を行い、前記活物質の表面に前記被覆層を形成する混練工程と、 を有することを特徴とする被覆活物質の製造方法。
IPC (2件):
H01M 4/36 ,  H01M 4/62
FI (2件):
H01M4/36 C ,  H01M4/62 Z
Fターム (19件):
5H050AA02 ,  5H050AA19 ,  5H050CA01 ,  5H050CA02 ,  5H050CA07 ,  5H050CA08 ,  5H050CA09 ,  5H050CA11 ,  5H050CB07 ,  5H050CB08 ,  5H050CB09 ,  5H050CB11 ,  5H050DA09 ,  5H050DA13 ,  5H050EA01 ,  5H050EA15 ,  5H050FA18 ,  5H050GA10 ,  5H050HA05
引用特許:
審査官引用 (3件)

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