特許
J-GLOBAL ID:201403012436125104

めっき膜の形成方法及びコーティング溶液

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 伊藤 進 ,  長谷川 靖 ,  篠浦 治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-009543
公開番号(公開出願番号):特開2014-143251
出願日: 2013年01月22日
公開日(公表日): 2014年08月07日
要約:
【課題】大気中かつ溶液プロセスで、ガラス基板10上へ密着性の高い銅めっき膜11、12を形成できる銅めっき膜の形成方法を提供する。【解決手段】実施形態の銅めっき膜の形成方法は、ガラス基板10に銅めっき膜11、12を成膜するめっき工程と、銅めっき膜11、12を覆う保護膜13を塗布する保護膜形成工程と、500°Cで大気中熱処理を行う熱処理工程と、保護膜13を剥離する剥離工程と、を具備する。【選択図】図1A
請求項(抜粋):
無機材料からなる基板にめっき膜を成膜するめっき工程と、 前記めっき膜を覆う保護膜を塗布する保護膜形成工程と、 350°C〜550°C以下の温度で大気中熱処理を行う熱処理工程と、 前記保護膜を剥離する剥離工程と、を具備することを特徴とするめっき膜の形成方法。
IPC (2件):
H05K 3/22 ,  H05K 3/38
FI (2件):
H05K3/22 Z ,  H05K3/38 D
Fターム (14件):
5E343AA02 ,  5E343AA23 ,  5E343AA26 ,  5E343BB24 ,  5E343BB44 ,  5E343BB52 ,  5E343BB71 ,  5E343DD33 ,  5E343DD43 ,  5E343ER33 ,  5E343FF11 ,  5E343FF16 ,  5E343GG02 ,  5E343GG11

前のページに戻る