特許
J-GLOBAL ID：201403013699971278
成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井上 俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-220424
公開番号（公開出願番号）：特開2014-074190
出願日： 2012年10月02日
公開日（公表日）： 2014年04月24日
要約：
【課題】面内均一性の良好な膜を成膜可能な成膜装置を提供する。【解決手段】真空雰囲気である処理室内の円形の基板に対して互いに反応する複数種類の反応ガスを順番に供給し成膜処理を行う枚葉式の成膜装置において、天井部には、載置部2に載置された基板Wの中央部と対向する位置に開口するガス供給路311を備え、円形のガス分散板4はガス供給路311の開口部の中央部を通って下方側に突出する支持棒41の下端部にその中央部が支持され、前記開口部の真下から見て当該開口部を覆うように設けられている。この分散板4は、少なくとも支持棒41に支持される中央部からはガスが下方に流出しないように構成されている。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
真空雰囲気である処理室内の円形の基板に対して互いに反応する複数種類の反応ガスを順番に供給し、一の反応ガスの供給と次の反応ガスの供給との間に置換用のガスを供給して成膜処理を行う枚葉式の成膜装置において、
前記処理室に設けられ、基板が載置される載置部と、
前記載置部と対向して設けられた天井部と、
前記載置部上の基板の中央部と対向する位置にて、前記天井部に開口する開口部を備えたガス供給路と、
前記天井部から前記開口部の中央部を通って下方側に突出する支持棒と、
前記支持棒の下端部にその中央部が支持され、前記載置部上の基板と対向するようにかつ前記開口部の真下から見て当該開口部を覆うように設けられた円形のガス分散板と、
前記処理室内の真空排気を行う排気部と、を備え、
前記分散板は、少なくとも前記支持棒に支持される中央部からはガスが下方に流出しないように構成されていることを特徴とする成膜装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (22件)：
4K030AA03
, 4K030AA13
, 4K030AA18
, 4K030BA18
, 4K030BA38
, 4K030CA04
, 4K030CA12
, 4K030JA03
, 5F045AA06
, 5F045AB31
, 5F045AB32
, 5F045AB33
, 5F045AC03
, 5F045AC05
, 5F045AC08
, 5F045AC11
, 5F045AC12
, 5F045AC15
, 5F045BB02
, 5F045DP03
, 5F045EE19
, 5F045EF14
