パターン形成方法、及び、相分離構造を含む構造体の製造方法

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 鈴木三義 , 五十嵐光永
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-033678
公開番号（公開出願番号）：特開2014-164043
出願日： 2013年02月22日
公開日（公表日）： 2014年09月08日
要約：

【課題】ケミカルエピタキシープロセスにおけるガイドパターンの簡便な形成方法を提供すること。【解決手段】露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する感光性樹脂組成物を用いて支持体1上に感光性樹脂膜2を形成し、感光性樹脂膜2を露光し、該露光後の感光性樹脂膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いてネガ型現像することにより感光性樹脂膜2aからなるプレパターンを形成する工程と、前記プレパターンが形成された支持体1上に、表面処理剤を含む中性化膜3を形成する工程と、支持体1上に形成された前記プレパターン及び中性化膜3をアルカリ現像し、支持体1上から該プレパターンを除去するとともに、支持体1上に中性化膜3aからなるパターンを形成する工程と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する感光性樹脂組成物を用いて支持体上に感光性樹脂膜を形成し、該感光性樹脂膜を露光し、該露光後の感光性樹脂膜を、有機溶剤を含有する現像液を用いてネガ型現像することによりプレパターンを形成する工程(1)と、前記プレパターンが形成された支持体上に、表面処理剤を含む中性化膜を形成する工程(2)と、前記支持体上に形成された前記プレパターン及び前記中性化膜をアルカリ現像し、該支持体上から該プレパターンを除去するとともに、該支持体上に該中性化膜からなるパターンを形成する工程(3)と、を含むことを特徴とするパターン形成方法。

IPC (5件)：

G03F 7/40 , G03F 7/038 , G03F 7/039 , G03F 7/32 , H01L 21/027

FI (7件)：

G03F7/40 511 , G03F7/038 601 , G03F7/039 601 , G03F7/32 , G03F7/40 , H01L21/30 502R , H01L21/30 502D

Fターム (49件)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096EA03 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096FA01 , 2H096GA03 , 2H096HA05 , 2H096JA04 , 2H125AE13N , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF38P , 2H125AF43P , 2H125AH16 , 2H125AH19 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ14X , 2H125AJ54X , 2H125AJ65X , 2H125AM13N , 2H125AM23N , 2H125AN02P , 2H125AN21P , 2H125AN38P , 2H125AN39N , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN54P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC17 , 2H125CD08P , 2H125CD37 , 2H125FA05 , 2H196AA25 , 2H196BA06 , 2H196EA03 , 2H196EA05 , 2H196EA23 , 2H196FA01 , 2H196GA03 , 2H196HA34 , 2H196JA04 , 5F146AA28

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