特許
J-GLOBAL ID：201403017711058953

電気光学装置、及び電子機器

発明者：
江口 芳和

江口 芳和 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦 ,  渡辺 和昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-243333
公開番号（公開出願番号）：特開2014-092695
出願日： 2012年11月05日
公開日（公表日）： 2014年05月19日
要約：
【課題】表示品質を向上させることができる液晶装置100の製造方法、液晶装置100、及び電子機器を提供する。【解決手段】複数の画素の各々に設けられた画素電極と、複数の画素の各々に対応して設けられたTFTと、画素電極とTFTとの間に設けられた第2平坦化膜12bと、画素電極におけるTFT素子と反対側に設けられ、少なくとも隣り合う画素電極と画素電極との間を覆うように設けられた積層絶縁膜12dと、を有し、積層絶縁膜12dは第2平坦化膜12bより透湿性が低く、第2平坦化膜12bは積層絶縁膜12dより吸湿性が高い。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
複数の画素の各々に設けられた反射画素電極と、 前記複数の画素の各々に対応して設けられたスイッチング素子と、 前記反射画素電極と前記スイッチング素子との間に設けられた第1絶縁膜と、 前記反射画素電極における前記スイッチング素子と反対側に設けられ、少なくとも隣り 合う反射画素電極と反射画素電極との間を覆うように設けられた第2絶縁膜と、 を有し、 前記第2絶縁膜は、前記第1絶縁膜より透湿性が低く、 前記第1絶縁膜は、前記第2絶縁膜より吸湿性が高いことを特徴とする電気光学装置。
IPC (2件)：
G02F 1/134 ,  G02F 1/136
FI (2件)：
G02F1/1343 ,  G02F1/1368
Fターム (18件)：
2H092GA12 ,  2H092GA17 ,  2H092HA04 ,  2H092HA05 ,  2H092JA25 ,  2H092JA46 ,  2H092JB07 ,  2H092JB13 ,  2H092JB57 ,  2H092JB58 ,  2H092JB63 ,  2H092JB68 ,  2H092KA19 ,  2H092KB14 ,  2H092KB24 ,  2H092KB25 ,  2H092NA25 ,  2H092RA05
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM