特許

J-GLOBAL ID：201403020253169580

基板処理装置

発明者： 難波 敏光
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (3件)： 松阪 正弘 ,  田中 勉 ,  井田 正道
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-180566
公開番号（公開出願番号）：特開2014-038943
出願日： 2012年08月16日
公開日（公表日）： 2014年02月27日
要約：

【課題】基板への処理液の跳ね返りを抑制する。【解決手段】基板処理装置1は、基板保持部2と、基板回転機構5と、チャンバ7とを備える。基板回転機構5は、チャンバ7の内部空間70に配置される環状のロータ部52と、チャンバ7外においてロータ部52の周囲に配置されるステータ部51とを備える。基板保持部2は、ロータ部52の下側に取り付けられる。ロータ部52は、基板9および基板保持部2と共に、中心軸J1を中心として浮遊状態にて回転する。基板処理装置1では、基板保持部2に保持される基板9の上面91が、ロータ部52の下端よりも下側に位置する。これにより、基板9上から飛散する処理液が、ロータ部52に衝突することを抑制することができる。その結果、ロータ部52から基板9への処理液の跳ね返りを抑制しつつ処理液をチャンバ7外に容易に排出することができる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基板を処理する基板処理装置であって、 密閉された内部空間を形成するチャンバと、 前記チャンバの前記内部空間に配置され、水平状態で基板を保持する基板保持部と、 上下方向を向く中心軸を中心として前記基板を前記基板保持部と共に回転する基板回転機構と、 前記基板上に供給された処理液を前記チャンバ外に排出する処理液排出部と、 を備え、 前記基板回転機構が、 前記チャンバの前記内部空間に配置され、前記基板保持部が取り付けられる環状のロータ部と、 前記チャンバ外において前記ロータ部の周囲に配置され、前記ロータ部との間に回転力を発生するステータ部と、 を備え、 前記基板の上面が、前記ロータ部の下端よりも下側に位置することを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/304 643A ,  H01L21/306 J ,  H01L21/30 569C

Fターム (47件)：

5F043DD06 ,  5F043DD08 ,  5F043DD13 ,  5F043DD23 ,  5F043EE07 ,  5F043EE08 ,  5F043EE35 ,  5F146LA03 ,  5F146LA07 ,  5F157AB02 ,  5F157AB14 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC26 ,  5F157BB23 ,  5F157BB45 ,  5F157BH18 ,  5F157CA05 ,  5F157CB03 ,  5F157CB13 ,  5F157CB14 ,  5F157CB22 ,  5F157CB28 ,  5F157CB29 ,  5F157CC02 ,  5F157CC11 ,  5F157CE07 ,  5F157CE11 ,  5F157CE65 ,  5F157CF12 ,  5F157CF22 ,  5F157CF34 ,  5F157CF64 ,  5F157CF66 ,  5F157CF72 ,  5F157CF90 ,  5F157DB37 ,  5F157DB45 ,  5F157DB51 ,  5F157DC31 ,  5F157DC51 ,  5F157DC83 ,  5F157DC84 ,  5F157DC85 ,  5F157DC90