パターン形成方法及び該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (15件)：蔵田昌俊 , 高倉成男 , 中村誠 , 福原淑弘 , 峰隆司 , 白根俊郎 , 野河信久 , 幸長保次郎 , 河野直樹 , 砂川克 , 井関守三 , 佐藤立志 , 岡田貴志 , 堀内美保子 , 竹内将訓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-166049
公開番号（公開出願番号）：特開2014-026102
出願日： 2012年07月26日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
要約：

【課題】ラインウィズスラフネス等のラフネス性能及び露光ラチチュードに優れたパターン形成方法、並びに該方法に使用するための感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】本発明のパターン形成方法は、 (i)下記一般式(I)で表される化合物(A)と、酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を含む膜を形成する工程と、 (ii)前記膜に活性光線又は放射線を照射する工程と、 (iii)有機溶剤を含む現像液を用いて前記活性光線又は放射線を照射した膜を現像する工程とを含む。【化1】【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(i)下記一般式(I)で表される化合物(A)と、酸の作用により有機溶剤を含んだ現像液に対する溶解度が減少する樹脂(P)と、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物(B)とを含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を含む膜を形成する工程と、 (ii)前記膜に活性光線又は放射線を照射する工程と、 (iii)有機溶剤を含む現像液を用いて前記活性光線又は放射線を照射した膜を現像する工程とを含むパターン形成方法:

IPC (6件)：

G03F 7/004 , G03F 7/039 , G03F 7/038 , G03F 7/32 , H01L 21/027 , C07D 295/22

FI (6件)：

G03F7/004 503A , G03F7/039 601 , G03F7/038 601 , G03F7/32 , H01L21/30 502R , C07D295/22 A

Fターム (77件)：

2H096AA25 , 2H096BA06 , 2H096BA11 , 2H096EA05 , 2H096EA23 , 2H096GA03 , 2H096JA03 , 2H096JA08 , 2H125AF16P , 2H125AF17P , 2H125AF18P , 2H125AF19P , 2H125AF21P , 2H125AF22P , 2H125AF33P , 2H125AF36P , 2H125AF38P , 2H125AF39P , 2H125AF45P , 2H125AF70P , 2H125AH05 , 2H125AH12 , 2H125AH13 , 2H125AH15 , 2H125AH17 , 2H125AH19 , 2H125AH23 , 2H125AH24 , 2H125AH29 , 2H125AJ12X , 2H125AJ14X , 2H125AJ63X , 2H125AJ64X , 2H125AJ65X , 2H125AJ66X , 2H125AJ68X , 2H125AJ69X , 2H125AL03 , 2H125AL11 , 2H125AM12P , 2H125AM22P , 2H125AM23P , 2H125AM27P , 2H125AM86P , 2H125AM99P , 2H125AN08P , 2H125AN34P , 2H125AN38P , 2H125AN39P , 2H125AN42P , 2H125AN45P , 2H125AN54P , 2H125AN56P , 2H125AN57P , 2H125AN63P , 2H125AN65P , 2H125AN83P , 2H125AN86P , 2H125AN88P , 2H125BA01P , 2H125BA02P , 2H125BA26P , 2H125BA32P , 2H125BA33P , 2H125CA12 , 2H125CB09 , 2H125CC01 , 2H125CC15 , 2H125FA03 , 2H125FA05 , 4H006AB76 , 4H006AB92 , 4H006EA22 , 4H006TN10 , 4H006TN30 , 4H006TN50 , 4H006TN60

引用特許：

出願人引用 (1件)

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-105909 出願人：富士フイルム株式会社

審査官引用 (1件)

パターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜
公報種別：公開公報出願番号：特願2010-105909 出願人：富士フイルム株式会社

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