特許

J-GLOBAL ID：201403022565881581

塗布方法及び塗布装置、並びにフォトマスクブランクの製造方法

発明者： 中西 勝彦
出願人/特許権者： HOYA株式会社
代理人 (1件)： 大塚 武史
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-052830
公開番号（公開出願番号）：特開2013-176757
特許番号：特許第5401621号
出願日： 2013年03月15日
公開日（公表日）： 2013年09月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 塗布液を満たした液槽からノズルを通過し、ノズル先端開口部に到達した塗布液を基板の被塗布面に接液させ、前記基板と前記ノズルを相対的に、被塗布面に平行に移動させることによって、前記被塗布面に塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布方法において、 前記液槽は、塗布開始時の所望の液面レベルを規制する所定高さのオーバーフロー板を有し、 一回の塗布終了後に、前記液槽に塗布液の補給を行い、塗布開始時の所望の液面レベルを超える液面レベルまで液面を一旦上昇させ、次いで、次の塗布に先立ち、前記液槽中の前記塗布開始時の所望の液面レベルを超える液面レベルまで蓄えられた塗布液を、前記オーバーフロー板の上端からオーバーフローさせることにより、前記塗布開始時の所望の液面レベルまで液面を下降させることを特徴とする塗布方法。

IPC (6件)：

B05D 1/26 ( 200 6.01) ,  B05D 3/00 ( 200 6.01) ,  B05C 11/10 ( 200 6.01) ,  B05C 11/105 ( 200 6.01) ,  G03F 1/50 ( 201 2.01) ,  G03F 7/16 ( 200 6.01)

FI (6件)：

B05D 1/26 Z ,  B05D 3/00 B ,  B05C 11/10 ,  B05C 11/105 ,  G03F 1/50 ,  G03F 7/16 501