特許

J-GLOBAL ID：201403023821503626

透明電極基板、その製造方法および画像表示装置

発明者： 恒川 誠
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
代理人 (2件)： 岡本 寛之 ,  宇田 新一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-195418
公開番号（公開出願番号）：特開2014-052435
出願日： 2012年09月05日
公開日（公表日）： 2014年03月20日
要約：

【課題】透明導体層と低抵抗化層との密着力が高められた透明電極基板、その製造方法、および、その透明電極基板を備える画像表示装置を提供すること。【解決手段】透明電極基板1は、絶縁基板2と、絶縁基板2の上に形成される導体層3とを備え、導体層3は、絶縁基板2の上に形成される透明導体層4と、透明導体層4の上に形成され、導体層3の電気抵抗を低減させる低抵抗化層5と、透明導体層4および低抵抗化層5の間に介在され、リン含有割合が8質量%以上である密着層6とを備える。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

絶縁基板と、前記絶縁基板の少なくとも厚み方向一方側に形成される導体層とを備え、 前記導体層は、 前記絶縁基板の前記厚み方向一方側に形成される透明導体層と、 前記透明導体層の前記厚み方向一方側に形成され、前記導体層の電気抵抗を低減させる低抵抗化層と、 前記透明導体層および前記低抵抗化層の間に介在され、リン含有割合が8質量%以上である密着層と を備えることを特徴とする、透明電極基板。

IPC (4件)：

G09F 9/30 ,  G02F 1/133 ,  G02F 1/134 ,  G06F 3/041

FI (6件)：

G09F9/30 330Z ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1343 ,  G02F1/1345 ,  G06F3/041 330A ,  G06F3/041 350C

Fターム (25件)：

2H092GA62 ,  2H092MA05 ,  2H092MA11 ,  2H092MA13 ,  2H092MA17 ,  2H092NA18 ,  2H092NA28 ,  2H189AA17 ,  2H189HA16 ,  2H189LA28 ,  2H189LA30 ,  5B068AA01 ,  5B068BC13 ,  5B087AA04 ,  5B087CC16 ,  5C094AA21 ,  5C094AA36 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094DA13 ,  5C094EA05 ,  5C094FA02 ,  5C094FB12 ,  5C094GB10 ,  5C094JA01