特許
J-GLOBAL ID：201403024980339507
大気圧誘導結合プラズマによる薄膜形成方法及び薄膜形成装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
磯田 志郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-027158
公開番号（公開出願番号）：特開2014-156622
出願日： 2013年02月14日
公開日（公表日）： 2014年08月28日
要約：
【課題】大気圧誘導結合プラズマを利用して被処理物に各種の薄膜を形成することができる薄膜形成方法及び装置を提供する。【解決手段】プラズマガス31をプラズマ生成空間40に導入し、プラズマ生成手段5によって大気圧誘導結合プラズマ10を発生させ、ミスト生成手段2によって、反応材料61を含有する溶液のミスト64を生成し、ミストを、ミスト移送ガス32とともにプラズマ生成空間に導入し、プラズマ生成手段に付与する高周波電力を制御して、大気圧誘導結合プラズマ中の酸化雰囲気又は還元雰囲気を制御しつつ、反応材料の少なくとも一部の成分を含む薄膜を被処理物8に形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマガスをプラズマ生成空間に導入し、プラズマ生成手段によって大気圧誘導結合プラズマを発生させ、
ミスト生成手段によって、反応材料を含有する溶液のミストを生成し、
前記ミストを、ミスト移送ガスとともに前記プラズマ生成空間に導入し、
前記プラズマ生成手段に付与する高周波電力を制御して、前記大気圧誘導結合プラズマ中の酸化雰囲気又は還元雰囲気を制御しつつ、前記反応材料の少なくとも一部の成分を含む薄膜を被処理物に形成することを特徴とする大気圧誘導結合プラズマを用いた薄膜形成方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (18件)：
4K030AA03
, 4K030AA06
, 4K030AA14
, 4K030AA16
, 4K030AA17
, 4K030AA18
, 4K030BA14
, 4K030BA20
, 4K030BA44
, 4K030CA04
, 4K030CA07
, 4K030CA12
, 4K030CA17
, 4K030FA01
, 4K030FA04
, 4K030JA09
, 4K030KA01
, 4K030KA30
