特許

J-GLOBAL ID：201403027182452280

パターン位相差フィルムの製造装置及び製造方法

発明者： 内藤 暢夫
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-069197
公開番号（公開出願番号）：特開2014-191308
出願日： 2013年03月28日
公開日（公表日）： 2014年10月06日
要約：

【課題】視野角が安定し映像に違和感のないパターン位相差フィルムを連続的に製造することが可能なパターン位相差フィルムの製造装置を提供する。【解決手段】透明基材及び前記透明基材上に形成され、光配向材料を含む配向膜形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送する搬送機構と、連続的に搬送される前記長尺配向膜形成用フィルムの前記配向膜形成用層に偏向光をマスクを介してパターン状に照射するパターン照射機構と、前記パターン照射機構を用いて形成されたパターン配向膜上にパターン位相差層を形成する位相差層形成機構と、を少なくとも備え、前記パターン照射機構が、前記配向膜形成用層表面と前記マスクとの距離をモニターするモニター機構と、前記モニター機構がモニターした距離に基づいて、前記配向膜形成用層表面と前記マスクとの距離を初期値±50μm以内に保つように調整する調整機構とを備えることを特徴とする、パターン位相差フィルムの製造装置。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

透明基材及び前記透明基材上に形成され、光配向材料を含む配向膜形成用層を有する長尺配向膜形成用フィルムを連続的に搬送する搬送機構と、 連続的に搬送される前記長尺配向膜形成用フィルムの前記配向膜形成用層に偏向光をマスクを介してパターン状に照射するパターン照射機構と、 前記パターン照射機構を用いて形成されたパターン配向膜上にパターン位相差層を形成する位相差層形成機構と、を少なくとも備え、 前記パターン照射機構が、前記配向膜形成用層表面と前記マスクとの距離をモニターするモニター機構と、前記モニター機構がモニターした距離に基づいて、前記配向膜形成用層表面と前記マスクとの距離を初期値±50μm以内に保つように調整する調整機構とを備えることを特徴とする、パターン位相差フィルムの製造装置。

IPC (2件)：

G02B 5/30 ,  G02F 1/133

FI (3件)：

G02B5/30 ,  G02F1/1337 505 ,  G02F1/13363

Fターム (29件)：

2H149AA20 ,  2H149AB05 ,  2H149AB26 ,  2H149DA01 ,  2H149DA02 ,  2H149DA12 ,  2H149DB03 ,  2H149FA02Z ,  2H149FA21Y ,  2H191FA22X ,  2H191FA30X ,  2H191FB05 ,  2H191FD04 ,  2H191FD12 ,  2H191GA08 ,  2H191LA13 ,  2H191LA21 ,  2H191MA01 ,  2H191PA44 ,  2H191PA59 ,  2H191PA84 ,  2H191PA87 ,  2H290BA30 ,  2H290BF24 ,  2H290BF94 ,  2H290CA03 ,  2H290CB24 ,  2H290DA01 ,  2H290DA03

引用特許：

審査官引用 (1件)

• スキャン露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-295847   出願人：日本精工株式会社