特許
J-GLOBAL ID：201403027433417225
イオン源および集束イオンビーム装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
須田 篤
, 楠 修二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-092614
公開番号（公開出願番号）：特開2014-216187
出願日： 2013年04月25日
公開日（公表日）： 2014年11月17日
要約：
【課題】エミッタにイオン材料を良好に供給可能で、複数のエミッタを高密度に配置することができ、小型化が可能なイオン源および集束イオンビーム装置を提供する。【解決手段】リザーバ13およびエミッタ14が、エッチング加工により一体的に形成されており、表面に親水処理が施されている。リザーバ13は、天井面13aとその天井面13aを囲う側壁13bとを有している。エミッタ14は、柱状で複数から成り、リザーバ13の天井面13aから下方に向かって突出するよう、互いに間隔を開けて設けられている。リザーバ13の側壁13bの内側に、イオン液体から成るイオン材料1を貯留して、エミッタ14の先端から下方に向かってイオンを放出可能に構成されている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
イオン材料をイオン化して放出するためのイオン源であって、
天井面とその天井面を囲う側壁とを有するリザーバと、
前記リザーバの天井面から下方に向かって突出するよう設けられた柱状のエミッタとを有し、
前記イオン材料はイオン液体から成り、
前記リザーバおよび前記エミッタは表面が親水処理されており、
前記リザーバの側壁の内側に前記イオン材料を貯留して、前記エミッタの先端から下方に向かってイオンを放出可能に構成されていることを
特徴とするイオン源。
IPC (3件)：
H01J 27/26
, H01J 37/08
, H01J 37/317
H01J27/26
, H01J37/08
, H01J37/317 D
5C030DF05
, 5C030DF06
, 5C030DG07
, 5C034DD01
