エジェクタ

発明者： , , , , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (3件)：高田守 , 高橋英樹 , 小泉康男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-166433
公開番号（公開出願番号）：特開2014-024012
出願日： 2012年07月27日
公開日（公表日）： 2014年02月06日
要約：

【課題】主流体を旋回させる旋回流発生手段を備えたエジェクタにおいて、吸引流体の吸引量を向上すること。【解決手段】本発明のエジェクタ1は、主流体が流入する流入口2と、流入口2の下流側に設けられ、主流体の流路断面積を縮小する3と、縮径部3に主流体を旋回流として流入させる旋回流発生手段(旋回翼8)と、縮径部3を通過した主流体の旋回流によって生じる負圧により吸引される吸引流体が通る吸引口4と、主流体と吸引流体との混合流体が流出する流出口7と、を備え、吸引口4が主流体の流路の内壁に開口を形成する位置において、主流体の流路の内周に沿って圧力が変化する内周圧力分布が形成され、該開口は、内周圧力分布のうちで圧力が最低となる最低圧力部に対向する位置にある。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

主流体が流入する流入口と、前記流入口の下流側に設けられ、前記主流体の流路断面積を縮小する縮径部と、前記縮径部に前記主流体を旋回流として流入させる旋回流発生手段と、前記縮径部を通過した前記主流体の旋回流によって生じる負圧により吸引される吸引流体が通る吸引口と、前記主流体と前記吸引流体との混合流体が流出する流出口と、を備え、前記吸引口が前記主流体の流路の内壁に開口を形成する位置において、前記主流体の流路の内周に沿って圧力が変化する内周圧力分布が形成され、前記開口は、前記内周圧力分布のうちで圧力が最低となる最低圧力部に対向する位置にあるエジェクタ。

IPC (7件)：

B01F 5/04 , B01F 3/04 , B01F 3/08 , B01F 3/12 , B01F 3/06 , B01F 3/02 , B01F 5/00

FI (7件)：

B01F5/04 , B01F3/04 F , B01F3/08 Z , B01F3/12 , B01F3/06 , B01F3/02 , B01F5/00 F

Fターム (9件)：

4G035AB02 , 4G035AB20 , 4G035AB34 , 4G035AB37 , 4G035AB44 , 4G035AC08 , 4G035AC23 , 4G035AC44 , 4G035AE13

引用特許：

審査官引用 (9件)

特表昭57-500723
流体混合装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-334558 出願人：株式会社日立製作所, バブコック日立株式会社, 株式会社日立ハイテクノロジーズ
微細気泡発生システム
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-035409 出願人：シャープ株式会社

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