特許
J-GLOBAL ID：201403028763295572

蒸着マスクの製造方法及び蒸着マスク

発明者：
水村 通伸

水村 通伸 について


出願人/特許権者：
株式会社ブイ・テクノロジー

株式会社ブイ・テクノロジー について


代理人 (4件)： 笹島 富二雄 ,  西山 春之 ,  奥山 尚一 ,  小川 護晃
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-250972
公開番号（公開出願番号）：特開2014-098194
出願日： 2012年11月15日
公開日（公表日）： 2014年05月29日
要約：
【課題】開口パターン及びアライメントマークを位置精度よく形成する。【解決手段】基板上の複数の薄膜パターン及び複数の基板側アライメントマークに対応した位置に複数の第1及び第2貫通孔を設けた磁性金属部材と樹脂製のフィルムとを密接させたマスク用部材を形成する第1ステップと、枠状のフレームの一端面に前記マスク用部材を張架して、該フレームの一端面に前記磁性金属部材の周縁部を接合する第2ステップと、前記第1貫通孔内のフィルム部分にレーザ光を照射して薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを形成すると共に、前記第2貫通穴内の前記フィルム部分にレーザ光を照射してマスク側アライメントマークを形成する第3ステップと、を行なうものである。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基板上に複数の薄膜パターンを蒸着形成するための蒸着マスクの製造方法であって、 前記複数の薄膜パターン及び前記基板に予め設けられた複数の基板側アライメントマークに対応した位置に該薄膜パターン及び基板側アライメントマークよりも形状寸法の大きい複数の第1及び第2貫通孔を設けた磁性金属部材と樹脂製のフィルムとを密接させたマスク用部材を形成する第1ステップと、 前記磁性金属部材の複数の前記第1及び第2貫通孔を内包する大きさの開口を設けた枠状のフレームの一端面に前記マスク用部材を張架して、該フレームの一端面に前記磁性金属部材の周縁部を接合する第2ステップと、 前記第1貫通孔内の前記薄膜パターンに対応した位置の前記フィルム部分にレーザ光を照射して前記薄膜パターンと形状寸法の同じ開口パターンを形成すると共に、前記第2貫通穴内の前記基板側アライメントマークに対応した位置の前記フィルム部分にレーザ光を照射してマスク側アライメントマークを形成する第3ステップと、 を行なうことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。
IPC (3件)：
C23C 14/24 ,  H05B 33/10 ,  H01L 51/50
FI (3件)：
C23C14/24 G ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (14件)：
3K107AA01 ,  3K107CC35 ,  3K107CC45 ,  3K107FF15 ,  3K107GG04 ,  3K107GG28 ,  3K107GG32 ,  3K107GG33 ,  3K107GG54 ,  4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029BB03 ,  4K029CA01 ,  4K029HA01
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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