特許

J-GLOBAL ID：201403030133618084

載置台及びプラズマ処理装置

発明者： 富岡 武敏 ,  後平 拓 ,  眞壁 暁之
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  黒木 義樹 ,  柏岡 潤二 ,  大森 鉄平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2014-014180
公開番号（公開出願番号）：特開2014-195047
出願日： 2014年01月29日
公開日（公表日）： 2014年10月09日
要約：

【課題】被処理体の中央部領域と端部領域とにおける温度の不均一を抑制する。【解決手段】載置台は、冷媒用の流路が内部に形成されたベース部と、ベース部の上に設けられ、被処理体を載置する載置面を有し、被処理体を静電吸着する静電チャックと、を備える。ベース部は、静電チャックを載置する第1上面、該第1上面よりも外方の該第1上面よりも低い位置に設けられ、フォーカスリングを載置する環状の第2上面、及び第1上面と第2上面との間で鉛直方向に延在する側面を有する。流路は、中央流路及び周縁流路を有する。中央流路は、第1上面の下方において延在する。周縁流路は、第2上面の下方において延在し、且つ、第1上面の下方において側面に沿って第1上面が設けられた方向に延びる部分を含む。載置面には、被処理体の裏面と接触する複数の凸部がドット状に設けられ、複数の凸部と被処理体の裏面とが接触する面積の単位面積当たりの大きさは、載置面の端部領域の方が載置面の中央部領域よりも大きい。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

被処理体及びフォーカスリングを載置する載置台であって、 その内部に冷媒用の流路が形成されたベース部と、 前記ベース部の上に設けられており、前記被処理体を載置する載置面を有し、前記被処理体を静電吸着する静電チャックと、 を備え、 前記ベース部は、その上に前記静電チャックが設けられた第1上面、該第1上面よりも外方において該第1上面よりも低い位置に設けられ、その上方に前記フォーカスリングが設けられた環状の第2上面、及び前記第1上面と前記第2上面との間において鉛直方向に延在する側面を有し、 前記流路は、前記第1上面の下方において延在する中央流路、及び、前記第2上面の下方において延在し、且つ、前記第1上面の下方において前記側面に沿って前記第1上面が設けられた方向に延びる部分を含む周縁流路を有し、 前記載置面は、中央部領域及び該中央部領域を取り囲む端部領域を有し、 前記載置面には、前記被処理体の裏面と接触する複数の凸部がドット状に設けられ、 前記複数の凸部は、前記端部領域の前記複数の凸部と前記被処理体の裏面とが接触する面積の単位面積当たりの大きさが、前記中央部領域の前記複数の凸部と前記被処理体の裏面とが接触する面積の単位面積当たりの大きさよりも大きくなるように形成されている、 載置台。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  H05H 1/46 ,  H01L 21/683

FI (4件)：

H01L21/302 101B ,  H01L21/302 101G ,  H05H1/46 Z ,  H01L21/68 R

Fターム (22件)：

5F004AA01 ,  5F004BA04 ,  5F004BB22 ,  5F004BB23 ,  5F004BB25 ,  5F131AA02 ,  5F131BA19 ,  5F131CA02 ,  5F131CA06 ,  5F131EA03 ,  5F131EA13 ,  5F131EB14 ,  5F131EB16 ,  5F131EB17 ,  5F131EB54 ,  5F131EB72 ,  5F131EB79 ,  5F131EB82 ,  5F131EB84 ,  5F131JA10 ,  5F131JA12 ,  5F131JA23