特許
J-GLOBAL ID：201403030854833075
インプリント用モールド、インプリント方法、パターン形成体
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-102073
公開番号（公開出願番号）：特開2014-058151
出願日： 2013年05月14日
公開日（公表日）： 2014年04月03日
要約：
【課題】微細なパターンを形成するのに好適なインプリント用モールド及びこれを用いたインプリント方法、並びにインプリント方法を用いて製造されるパターン形成体を提供する。【解決手段】インプリント用モールドは、パターン転写モールド20と残留樹脂硬化モールド30とから構成される。パターン転写モールド20は、基材11の表面上に塗布された被転写樹脂層12に、凹凸からなるパターン13を二次元方向に一定の間隔で複数転写させる。残留樹脂硬化モールド30は、パターン転写モールド20による複数回のパターンの転写後に、被転写樹脂層12の部分でパターン転写モールド20の外周囲にはみ出して残留する未硬化の樹脂14を一括して平らにならし硬化させる。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基材の表面上に塗布された被転写樹脂層に、凹凸からなるパターンを転写させるパターン転写モールドと、
前記パターン転写モールドによる複数回のパターン転写後に前記パターン転写モールドの外周囲にはみ出して残留する複数の前記被転写樹脂層の部分を一括して平らにならし硬化させる残留樹脂硬化モールドと、
を備えることを特徴とするインプリント用モールド。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B29C59/02 B
, H01L21/30 502D
4F209AA36
, 4F209AA44
, 4F209AF01
, 4F209AG03
, 4F209AG05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AJ03
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC05
, 4F209PC08
, 4F209PG05
, 4F209PJ06
, 4F209PN06
, 4F209PN09
, 4F209PQ11
, 5F146AA32
