特許
J-GLOBAL ID：201403031511934336

プロピレン製造用触媒の製造方法及びプロピレンの製造方法

発明者：
菊池 聡

菊池 聡 について

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伊藤 ますみ

伊藤 ますみ について

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伊藤 貢悦

伊藤 貢悦 について

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山口 正志

山口 正志 について


出願人/特許権者：
三菱化学株式会社

三菱化学株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-067179
公開番号（公開出願番号）：特開2014-188463
出願日： 2013年03月27日
公開日（公表日）： 2014年10月06日
要約：
【課題】 エチレンを原料としてプロピレンを製造する方法に使用可能な、プロピレン選択率が高い触媒とその製造方法の提供。【解決手段】 以下の工程を順次経て触媒を製造する。 (1)8員環構造のゼオライトとシリカとを、特定比率で混合してスラリー化するスラリー化工程 (2)前記スラリーを特定の温度条件、運転条件で噴霧乾燥する噴霧乾燥工程 (3)噴霧乾燥工程で得られた粉体を焼成する焼成工程 また(1)スラリー化工程と(2)噴霧乾燥工程の間に、ゼオライトをシリル化処理する工程を加えることが好ましい。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
エチレンを原料としてプロピレンを製造するための触媒の製造方法であって、以下の工程を順次経ることを特徴とする触媒の製造方法。 (1)8員環構造のゼオライトとシリカとを、ゼオライト/シリカの重量比率として、1/10〜10/1の範囲で混合してスラリー化するスラリー化工程 (2)前記スラリーを入口温度が140°Cを超え400°C以下、出口温度が80°Cを超え250°C以下(但し入口温度>出口温度)の温度条件で、供給スラリー中の水分/乾燥気流の重量比率が0.005〜0.2となるような範囲で噴霧乾燥する噴霧乾燥工程 (3)前記噴霧乾燥工程で得られた粉体を、400°C以上900°C以下で0.1〜10時間焼成する焼成工程
IPC (5件)：
B01J 29/70 ,  B01J 37/00 ,  B01J 37/08 ,  C07C 6/04 ,  C07C 11/06
FI (5件)：
B01J29/70 Z ,  B01J37/00 F ,  B01J37/08 ,  C07C6/04 ,  C07C11/06
Fターム (34件)：
4G169AA02 ,  4G169AA08 ,  4G169AA09 ,  4G169AA10 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA07A ,  4G169BA07B ,  4G169BA21C ,  4G169BE32C ,  4G169CC13 ,  4G169DA08 ,  4G169EA02Y ,  4G169FA01 ,  4G169FB30 ,  4G169FB63 ,  4G169FC04 ,  4G169FC07 ,  4G169FC08 ,  4G169GA05 ,  4G169GA06 ,  4G169ZA07A ,  4G169ZA14A ,  4G169ZA14B ,  4G169ZA46A ,  4G169ZA46B ,  4H006AA02 ,  4H006AC29 ,  4H006BA71 ,  4H006BA81 ,  4H006DA10 ,  4H006DA20 ,  4H039CA29 ,  4H039CE90
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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