特許
J-GLOBAL ID：201403032544909325

溶射材料及びその製造方法

発明者：
深川 直樹

深川 直樹 について

, 
中島 祐樹

中島 祐樹 について


出願人/特許権者：
日本イットリウム株式会社

日本イットリウム株式会社 について


代理人 (2件)： 羽鳥 修 ,  松嶋 善之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-144462
公開番号（公開出願番号）：特開2014-009361
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2014年01月20日
要約：
【課題】フレーム中に供給するときの流動性が良好であり、また均一な溶射膜が得られやすい溶射材料を提供すること。【解決手段】本発明の溶射材料は、イットリウムのオキシフッ化物(YOF)を含む顆粒からなる。この顆粒は更にイットリウムのフッ化物(YF3)を含んでいてもよい。この顆粒の酸素含有量は0.3質量%〜13.1質量%であることが好適である。この顆粒の破壊強度は0.3MPa以上10MPa未満であることが好適である。この顆粒におけるイットリウム(Y)の一部は、イットリウム以外の希土類元素(Ln)の少なくとも1種によって置換されていてもよい。その場合のYとLnの合計に対するLnのモル分率は0.2以下であることが好適である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
イットリウムのオキシフッ化物(YOF)を含む顆粒からなる溶射材料。
IPC (1件)：
C23C 4/10
FI (1件)：
C23C4/10
Fターム (7件)：
4K031AA04 ,  4K031CB02 ,  4K031CB14 ,  4K031CB41 ,  4K031CB42 ,  4K031CB49 ,  4K031DA04
引用特許：
出願人引用 (2件)

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