特許
J-GLOBAL ID:201403032551581041
合成ガス製造用触媒及び合成ガスの製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-076347
公開番号(公開出願番号):特開2014-200705
出願日: 2013年04月01日
公開日(公表日): 2014年10月27日
要約:
【課題】ドライリフォーミング法による合成ガスの製造において、高い触媒活性を有し、かつ、炭素質が析出しても、その触媒活性が低下しないような触媒、および長時間高い製造効率を保つ製造方法を提供すること【解決手段】炭化水素を含む原料ガスと二酸化炭素を反応させ、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する合成ガス製造用触媒であって、前記触媒が、下記一般式(1)で表される複合酸化物にNiを担持させたものであることを特徴とする合成ガス製造用触媒。 MgxAlyMnzOδ ・・・(1)(前記一般式(1)において、x、y、及びzはそれぞれ、複合酸化物中に含まれるマグネシウム、アルミニウム、マンガン原子のモル比を表し、かつ下記式(2)〜(5)を満たす。 0.01≦x≦0.99 ・・・(2) 0.01≦y≦0.99 ・・・(3) z≧0.1 ・・・(4) x+y+z=1.0 ・・・(5)δは電荷中性条件を満たすのに必要な数を表す。)【選択図】なし
請求項(抜粋):
炭化水素を含む原料ガスと二酸化炭素を反応させ、一酸化炭素と水素を含む合成ガスを製造する合成ガス製造用触媒であって、
前記触媒が、下記一般式(1)で表される複合酸化物にNiを担持させたものであることを特徴とする合成ガス製造用触媒。
MgxAlyMnzOδ ・・・(1)
(前記一般式(1)において、x、y、zはそれぞれ、複合酸化物中に含まれるマグネシウム、アルミニウム、マンガン原子のモル比を表し、かつ下記式(2)〜(5)を満たす。
0.01≦x≦0.99 ・・・(2)
0.01≦y≦0.99 ・・・(3)
z≧0.1 ・・・(4)
x+y+z=1.0 ・・・(5)
δは電荷中性条件を満たすのに必要な数を表す。)
IPC (3件):
B01J 23/889
, C01B 3/40
, C01B 31/18
FI (3件):
B01J23/84 311M
, C01B3/40
, C01B31/18 A
Fターム (23件):
4G140EA03
, 4G140EA05
, 4G140EC01
, 4G140EC02
, 4G140EC05
, 4G146JA01
, 4G146JB02
, 4G146JB04
, 4G146JC22
, 4G169AA03
, 4G169BB06A
, 4G169BB06B
, 4G169BC10A
, 4G169BC10B
, 4G169BC16A
, 4G169BC16B
, 4G169BC62A
, 4G169BC62B
, 4G169BC68A
, 4G169BC68B
, 4G169CB81
, 4G169CC40
, 4G169FC08
引用特許:
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