特許
J-GLOBAL ID：201403033017490240
シャドウマスクを用いて湾曲形状部分を形成する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-073638
公開番号（公開出願番号）：特開2012-214043
特許番号：特許第5632413号
出願日： 2012年03月28日
公開日（公表日）： 2012年11月08日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 複数の貫通孔を有するシャドウマスクであって、各貫通孔はシャドウマスクの上面からシャドウマスクの下面に至り、各貫通孔はシャドウマスクの下面に隣接する下側部分と前記下側部分よりもシャドウマスクの上面に近い上側部分とを有し、各貫通孔の下側部分はシャドウマスクの下面に下部開口を有し、シャドウマスクの下面への各貫通孔の上側部分の垂直投影はその貫通孔の下部開口の内側に完全に収まる、シャドウマスクの下面を基板の上面に付ける工程と、
シャドウマスクの各貫通孔を介して基板の上面を等方性プラズマエッチングに曝す工程と、
基板の上面内に複数の窪みが所定の大きさに形成された後にシャドウマスクを除去する工程と、
を含む、基板に複数の窪みを形成する方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
B41J 2/16 507
, B41J 2/16 305
