特許
J-GLOBAL ID:201403033131481471
成膜装置
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
特許業務法人前田特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2012-277145
公開番号(公開出願番号):特開2014-117689
出願日: 2012年12月19日
公開日(公表日): 2014年06月30日
要約:
【課題】静電噴霧型の成膜装置において、装置を大型化させることなく、対象物に付着させる液滴の小径化を図る。【解決手段】成膜装置(10)は、被膜を形成するガラス基板(100)に対向し、原料液が供給される筒状の噴霧ノズル(21)と、原料液が帯電した液滴となって噴霧ノズル(21)からガラス基板(100)へ噴霧されるように噴霧ノズル(21)とガラス基板(100)との間に電圧を印加する電圧印加部(40)とを備えている。上記成膜装置(10)において、原料液がガラス基板(100)の表面に対して傾斜した方向に噴霧されるように噴霧ノズル(21)を構成する。【選択図】図2
請求項(抜粋):
被膜を形成する対象物(100)に対向し、原料液が供給される筒状の噴霧ノズル(21)と、
上記原料液が帯電した液滴となって上記噴霧ノズル(21)から上記対象物(100)へ噴霧されるように上記噴霧ノズル(21)と上記対象物(100)との間に電圧を印加する電圧印加部(40)とを備え、
上記対象物(100)に原料液を噴霧することによって該対象物(100)の表面に被膜を形成する静電噴霧型の成膜装置であって、
上記噴霧ノズル(21)は、上記原料液を上記対象物(100)の表面に対して傾斜した方向に噴霧するように構成されている
ことを特徴とする静電噴霧型の成膜装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (7件):
4F034AA04
, 4F034BA07
, 4F034BA14
, 4F034BB15
, 4F034CA02
, 4F034CA25
, 4F034DA26
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