特許
J-GLOBAL ID:201403034816888767
光照射装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件):
西村 竜平
, 齊藤 真大
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-071383
公開番号(公開出願番号):特開2014-193450
出願日: 2013年03月29日
公開日(公表日): 2014年10月09日
要約:
【課題】ガス吹出口とランプと被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮ることにより、当該渦気流により舞い上がる粉体がランプに付着することを防ぐ。【解決手段】被照射面Waに向けて光を照射するランプ4と、ランプ4の側方に配置されてランプ4の側面41c、41dにガスを吹き出すガス吹出口51xを有するガス供給部5と、ガス吹出口51x及びランプ4の間においてガス吹出口51xよりも被照射面Wa側に設けられた遮蔽体6とを備える。【選択図】図5
請求項(抜粋):
被照射面に向けて光を照射するランプと、
前記ランプと前記被照射面との対向方向に直交する側方に配置され、前記ランプの側面にガスを吹き出すガス吹出口を有するガス供給部と、
前記ガス吹出口及び前記ランプの間に配置され、前記ガス吹出口と前記ランプと前記被照射面との間の空間に形成される渦気流を遮蔽する遮蔽板とを備える光照射装置。
IPC (3件):
B08B 7/00
, H01L 21/027
, H01L 21/304
FI (3件):
B08B7/00
, H01L21/30 563
, H01L21/304 645D
Fターム (12件):
3B116AA02
, 3B116AB14
, 3B116BC01
, 5F146HA03
, 5F157AB33
, 5F157AB94
, 5F157AC01
, 5F157BG43
, 5F157BH21
, 5F157CF16
, 5F157CF40
, 5F157DA31
引用特許:
審査官引用 (3件)
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特開昭59-076814
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特開昭59-076814
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紫外光照射装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-123581
出願人:ホーヤ・ショット株式会社
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