特許
J-GLOBAL ID：201403035280401076
露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
志賀 正武
, 高橋 詔男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-144783
公開番号（公開出願番号）：特開2014-011203
出願日： 2012年06月27日
公開日（公表日）： 2014年01月20日
要約：
【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。【解決手段】露光装置は、第1液浸空間の第1液体を介して露光光で基板を露光する。露光装置は、露光光が射出される射出面を有する光学部材と、露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第1液体の第1液浸空間を形成する第1部材と、光路に対して第1部材の外側に配置され、第1液浸空間から離れて、第2液体の第2液浸空間を形成可能な第2部材と、を備える。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
第1液浸空間の第1液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
前記露光光が射出される射出面を有する光学部材と、
前記露光光の光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第1液体の前記第1液浸空間を形成する第1部材と、
前記光路に対して前記第1部材の外側に配置され、前記第1液浸空間から離れて、第2液体の第2液浸空間を形成可能な第2部材と、を備える露光装置。
IPC (1件)：
FI (2件)：
H01L21/30 515D
, H01L21/30 515G
5F146BA04
, 5F146BA05
, 5F146BA11
, 5F146CC01
, 5F146CC04
, 5F146DA32
, 5F146DA33
